Pada proses pengeluaran, perubahan suhu yang berlaku bukan sahaja dapat dilihat pada graf, tetapi ia juga akan merosakkan kualiti produk yang dihasilkan. Perubahan suhu sebanyak 2°C semasa proses memanaskan bahan fotoresist boleh merosakkan keseluruhan hasil proses litografi. Jika terdapat kawasan yang sejuk semasa proses pengeringan wafer, maka akan timbul garisan dan zarah-zarah yang melekat pada permukaan wafer tersebut. Penggunaan haba inframerah dapat mengatasi masalah-masalah ini.
Apa yang penting dari segi teknikalnya:
Haba inframerah memastikan tenaga disalurkan ke tempat dan masa yang diperlukan, tanpa menyebabkan bilik pengeluaran menjadi terlalu panas. Emitter inframerah kami mampu memberikan suhu yang stabil dalam lingkungan ±0.1°C pada seluruh permukaan wafer. Kelas bilik bersih 1–100 dapat dicapai kerana peralatan yang digunakan diperbuat daripada bahan yang tidak mengeluarkan gas berbahaya dan tidak menghasilkan zarah-zarah tertentu. Profil pemanasan bahan fotoresist juga dapat dikawal dengan tepat, dan sistem ini direka untuk beroperasi 24/7, dengan jadual penyelenggaraan yang teratur agar tidak mengganggu proses pengeluaran.
Mengapa ia berkesan:
Dalam proses pengeringan wafer, haba inframerah membuang kelembapan pada permukaan wafer tanpa menyebabkan suhu melonjak secara drastik, sekali gus mengelakkan kecacatan pada wafer. Dalam proses litografi, proses pemanasan yang konsisten memastikan dimensi wafer tetap stabil dari satu sesi ke sesi yang lain, serta dari hari ke hari. Dalam proses pembungkusan, proses pengeringan berlangsung lebih cepat dan memerlukan tenaga yang lebih sedikit. Dalam proses pembersihan dan pengeringan, sisa-sisa bahan dapat hilang sepenuhnya, sekali gus mengurangkan keperluan untuk melakukan pembaikan semula. Hasilnya, jumlah wafer yang rosak berkurangan, proses pengeluaran menjadi lebih stabil, dan kadar pengeluaran dapat ditingkatkan.
Apa yang perlu dipelajari dari pengalaman:
Haba inframerah hanya berfungsi dengan baik apabila laluan cahayanya tidak terhalang. Bayangan yang dihasilkan oleh alat-alat tertentu boleh menyebabkan kawasan tertentu menjadi sejuk, jadi reka bentuk alat dan kedudukan emitter perlu dirancang dengan teliti terlebih dahulu. Pastikan suhu yang dihasilkan sesuai dengan prosedur yang ada, dan pastikan bahawa emisiviti bahan-bahan yang digunakan berfungsi dengan baik. Dengan cara ini, prestasi sistem akan menjadi lebih konsisten, dengan kos operasi yang lebih rendah, tanpa mengorbankan masa operasi.