Fabフロアでは、フォトレジストのベークは選択肢ではなく、熱予算である。ソフトベークやハードベークの温度が2℃ずれると、クリティカルディメンションの制御が崩れ、リソグラフィ欠陥が連鎖的に発生する。我々は赤外線加熱を核に設計した高温ファブラボ用炉を構築し、サブミリメートル単位の熱均一性を実現している。その結果、ウエハーごとに繰り返し可能な温度プロファイルを達成している。
技術的に重要な点
近赤外線（NIR）加熱を用いることで、熱をプロセス表面に直接届け、熱遅れや冷点による影響を排除している。これにより安定した再現性のある熱場を提供し、プロセスウィンドウを狭く設定可能にしている。クリーンルームクラス1～100対応は設計に組み込まれており、エアフローパス、シール、チャンバー材質は粒子発生を限りなくゼロに近づけるために選定されている。生産面では、これがリジェクト減少とリワーク削減に直結している。
Fabラボでの適用理由
Fabラボではベンチオーブンを使うことができず、プロセスツールの挙動を再現する装置が必要となる。この炉はフォトレジストベーク温度を高精度に維持するため、ライン幅のばらつきが抑えられ、スカムが減少し付着性が向上する。エネルギー効率は迅速な立ち上がりと最小限の待機時損失で管理されており、24時間365日の稼働に耐える設計となっている。狙いは計画外ダウンタイムゼロである。
計画に必要な事項
この炉は性能を発揮するが、安定したユーティリティ（クリーン電力、十分な冷却、適切な排気処理）が不可欠である。多くのファブ装置チェーンへの統合は比較的容易だが、電圧、ガス、インターフェイスの仕様については現地での検証が必要となる。短期間の立ち上げ調整にプロセスチームを割り当てれば、ツールとラインの組み合わせが確立した後は再現性が標準となる。