خشک کردن ویفرهای سنسورهای MEMS بدون مشکلات اضافی
هنگام خشک کردن ویفرهای سنسورهای MEMS، در واقع در حال انجام یک کار پرخطر هستیم؛ چرا که باید از خراب شدن سنسور جلوگیری کنیم. لازم است که رطوبت از روی سطح ویفر از بین برود، اما نمیتوانیم هیچ آلایندهای روی آن باقی بگذاریم؛ همچنین نمیتوانیم فشار مکانیکی زیادی به ویفر وارد کنیم تا منجر به تغییر شکل آن شود.
به همین دلیل از گرمکنهای مادون قرمز کوتاهامواج استفاده میکنیم. در عوض استفاده از هوای گرم، این گرمکنها از تابش نور برای گرم کردن سطح ویفر استفاده میکنند؛ این روش مستقیمتر است. در واقع، ما مستقیماً با مولکولهای آب روی سطح ویفر در تماس هستیم و به آنها دستور میدهیم که حرکت کنند.
تمیز کردن فرآیند
روشهای قدیمی خشک کردن معمولاً پر از مشکلات است؛ یا باید از مواد شیمیایی خطرناک استفاده کنیم، یا از سیستمهای قدرتمند تهویه استفاده کنیم که صدای زیادی تولید میکنند و مواد شیمیایی مضری را در اطراف پخش میکنند.
اما روش مادون قرمز متفاوت است؛ این روش «خشک» است؛ یعنی هیچ مواد شیمیایی یا کاتالیزورهایی که حاوی سرب باشند، وجود ندارد؛ فقط نور و گرما وجود دارد.
نکته جالب اینجاست که ما به باندهای جذب خاص آب هدف قرار میدهیم؛ بنابراین از انرژی بیشتر برای گرم کردن محفظه خلا یا قاب فلزی دستگاه استفاده نمیکنیم؛ فقط آن بخشی را که واقعاً نیاز به گرم شدن دارد، گرم میکنیم. این روش کارآمدتر است و برای محیط زیست نیز مفیدتر است.
تعادل در فرآیند
البته این کار کاملاً جادویی نیست؛ برای تبخیر سریع آب، از لامپهای کوارتز با توان بالا استفاده میکنیم؛ اما این توان میتواند خطرناک باشد؛ اگر زمان گرم کردن کمی اشتباه شود، میتواند باعث خراب شدن ساختارهای MEMS یا پاره شدن غشای سنسور شود. بنابراین برای جلوگیری از این مشکلات، نیاز به کنترلکنندههای دقیق وجود دارد.
صرفهجویی در فضای آزمایشگاه
یکی از مزایای این روش، صرفهجویی در فضای آزمایشگاه است؛ چون از لولههای بزرگ یا فنهای قدرتمند استفاده نمیشود، ابعاد دستگاه کوچکتر میشود؛ همچنین مدیریت اتاقهای تمیز نیز آسانتر میشود. این روش به اهداف صرفهجویی در انرژی نیز کمک میکند، بدون اینکه سرعت تولید کاهش یابد. این روش، روشی منطقیتر برای ساخت دستگاهها است.