در فرآیند لیتوگرافی، فاصله بین لامپ و ویفر اهمیت زیادی دارد؛ این فاصله باید به درستی تنظیم شود. اگر این فاصله خیلی کم باشد، منجر به افزایش دما، خروج گازهای ناشی از فوتورزیست و ایجاد ذرات ناخواسته خواهد شد. اگر این فاصله خیلی زیاد باشد، عملکرد دستگاه ضعیف خواهد بود و زمان لازم برای پردازش ویفر افزایش خواهد یافت. ما ماژولهای گرمایشی خود را بر اساس همین فاصله طراحی میکنیم و آن را به عنوان یک معیار مهم برای کنترل فرآیند در نظر میگیریم.
ما از منبع مادون قرمز با طول موج کوتاه و ساختارهای تقویتشده با الیاف کربن استفاده میکنیم؛ این روش باعث پاسخ سریع دستگاه در برابر تغییرات دما میشود. در ناحیه فعال، یکنواختی دمای ویفر در حد ±۰٫۱ درجه سانتیگراد باقی میماند؛ همچنین، تکرارپذیری عملکرد دستگاه نیز با استفاده از سیستمهای اندازهگیری دما تضمین میشود. این دستگاه مناسب برای محیطهای تمیز کلاس ۱ تا ۱۰۰ است؛ مواد و قطعات مورد استفاده نیز به گونهای انتخاب شدهاند که در طول فرآیند پردازش، هیچ ذره ناخواستهای تولید نشود. پروفایلهای گرمایشی مربوط به فرآیندهای پردازش نیز طبق استانداردها باقی میمانند؛ زیرا دما در تمام مراحل پایدار است.
مزایای این روش این است که رفتار ابعاد کلیدی ویفر قابل پیشبینی است؛ همچنین، تعداد موارد نیاز به بازسازی کاهش مییابد. مصرف انرژی نیز کاهش مییابد؛ زیرا منبع گرمایشی در صورت نیاز فعال میشود و به سرعت سرد میشود؛ بنابراین، هیچ اتلاف انرژی اضافی وجود ندارد. قابلیت اطمینان دستگاه نیز در گزارشات زمان کاری مشخص میشود؛ ما دستگاههایی داریم که بیش از ۵۰۰۰ ساعت کار کردهاند و انحراف در خروجی آنها کمتر از ۵٪ بوده است؛ همچنین، هیچ توقف غیرمنتظرهای به دلیل مشکلات مربوط به ماژول گرمایشی وجود ندارد. برنامهریزیهای مربوط به فرآیند پردازش بر اساس شرایط شیمیایی و نوری انجام میشود، نه بر اساس زمان لازم برای سرد شدن دستگاه.
این ماژول کوچک است، اما همچنان به فضای کافی برای جریان هوا و تعمیرات نیاز دارد؛ بنابراین، باید ۲۰۰ میلیمتر فضا در سمت ورودی در نظر گرفته شود. ادغام این ماژول با سیستمهای استاندارد نیز آسان است؛ اما پروفایل کنترلی آن باید متناسب با ساختار ویفر و مواد مورد استفاده باشد. راهاندازی این ماژول نیز سریع است؛ کافی است پارامترهای PID و جبرانکنندههای مربوطه را تنظیم کنیم.