半導体製造における炭素削減（装置を壊さずに）
半導体製造の洗浄工程では、難しいバランスを取らなければなりません。ウェハーから水分を迅速に取り除く必要がありますが、わずかな汚染も許されません。
長年にわたり、人々は対流加熱に頼ってきました。つまり、高温の空気をあちこちに送風する方法です。しかし、私たちはより良い方法を見つけました。それが防水型の赤外線ランプです。
湿った環境での課題
洗浄工程では、ハードウェアにとって過酷な条件が生じます。常に高い湿度と化学物質の蒸気があるため、普通のランプでは機能しなくなってしまいます。
短絡や早期故障を防ぐために、特殊な石英製のケースや完全な密封構造を使用します。これにより、水分が電極に触れるのを防ぎます。また、高いワット密度を実現しましょう。なぜかというと、ウェハーの表面を瞬時に乾燥させたいからです。ウェハーがその過渡領域に留まる時間が短ければ短いほど、歩留まりが向上します。
「防水」の実現方法
「防水」と言っても、レインコートのようなものではありません。ここで言うのは、蒸気や飛沫が内部に入らないようにするための高温度用のガスケットや密閉されたエンドキャップのことです。
ただし、問題点もあります。石英は高温になると膨張します。もし固定用のブラケットが緩すぎると、加熱サイクル中にチューブが破損してしまいます。これは避けるべき大きな問題です。そのため、膨張率を正確に調整する必要があります。
エネルギー節約（そして精神的な負担の軽減）
巨大な強制換気式オーブンから、目的を絞った赤外線加熱に切り替えることは、地球にとって大きな利点です。
チャンバー内の空気全体を加熱する代わりに、赤外線はエネルギーを直接基板に送ります。これにより、効率的に加熱でき、1枚のウェハーあたりの消費電力が大幅に削減されます。これにより、「グリーンファクトリー」という要求も容易に達成できます。
ただし、注意点があります。これらのランプは大量の放射熱を放出します。もし冷却や換気システムが不十分だと、周囲のセンサーが過熱してしまいます。安定した状態を保つためには、精密なPID制御回路を使用することをお勧めします。これにより、目標温度に到達しつつ、オーバーシュートを防止できます。