Reflektor untuk lampu pengering wafer
Cara yang Tepat untuk Proses Pengeringan Wafer: Kuncinya Ada pada Reflektor Kebanyakan orang menggunakan metode pengeringan dengan gelombang...
Sensor suhu untuk alat pengolahan wafer
Menggunakan Sinar Infra Merah untuk Proses Pengeringan Tanpa Timbal yang Efektif
Jika Anda bekerja dengan alat-alat untuk memproses wafer dan harus...
Sensor IR berkeakuratan tinggi untuk wafer
Berhentilah Membuang Energi Secara Sia-Sia: Cara Lebih Baik untuk Mengelola Sinar Inframerah pada Peralatan Semikonduktor
Lampu inframerah standar...
Pemanas wafer yang hemat energi
Mengapa Kita Mengganti Pemanas Resistif dengan Sistem Inframerah di Pabrik Cerdas
Jika Anda sedang merencanakan pembangunan pabrik cerdas, tentu Anda...
Pemanas untuk mengeringkan wafer sensor MEMS
Mengeringkan Wafer MEMS Tanpa Masalah
Saat mengeringkan wafer sensor MEMS, kita sebenarnya sedang bermain permainan yang sangat rumit: “jangan sampai...
Mengapa menggunakan inframerah untuk pemrosesan wafer
Dalam proses produksi, efek drift termal tidak hanya terlihat pada grafik saja—efek ini juga berdampak negatif pada kualitas produk yang dihasilkan....
Fluks evaporasi untuk wafer bump
Pada proses pembentukan “bump” pada wafer, sisa fluks bukanlah masalah estetika saja. Hal ini justru dapat menghambat proses produksi. Jika ada titik...
Soket lampu inframerah untuk alat pemrosesan wafer
Di area litografi, perubahan suhu sekecil setengah derajat pun dapat mengacaukan dimensi-dimensi penting yang diperlukan dalam proses produksi,...
Proses pengerasan poliimida untuk pabrik wafer
Di pabrik pembuatan semikonduktor, proses pengeringan polyimide bukanlah sekadar langkah termal biasa. Proses ini merupakan bagian penting dari...
Elemen pemanas untuk oksidasi wafer
Di lantai produksi, tingkat keberhasilan proses pembuatan wafer ditentukan oleh tingkat akurasi suhu yang digunakan. Jika suhu pengeringan...
Jarak keamanan untuk pemanasan wafer
Di area litografi, jarak antara lampu dan wafer bukanlah hal yang sepele; melainkan parameter penting yang perlu dikontrol dengan tepat. Jika...
Lampu pemanas wafer perangkat daya
Di lantai produksi, pergeseran 1°C pada proses soft bake akan mengubah profil photoresist. Jika hard bake dijalankan dengan suhu sedikit terlalu...