Mengeringkan Wafer MEMS Tanpa Masalah
Saat mengeringkan wafer sensor MEMS, kita sebenarnya sedang bermain permainan yang sangat rumit: “jangan sampai sensor tersebut rusak”. Kita perlu menghilangkan kelembapan dari wafer tersebut, tetapi tidak boleh ada kotoran yang tertinggal. Selain itu, kita juga tidak boleh memberikan tekanan mekanis yang berlebihan pada wafer tersebut agar tidak melengkung.
Itulah sebabnya kita menggunakan pemanas berbasis gelombang inframerah pendek. Alih-alih menggunakan udara panas untuk mengeringkan wafer, IR menggunakan radiasi cahaya. Ini merupakan cara yang lebih efektif. Kita dapat langsung mempengaruhi molekul-molekul air di permukaan wafer dan menyuruhnya untuk bergerak.
Proses Pembersihan yang Lebih Baik
Metode pengeringan tradisional biasanya menyebabkan masalah. Kita harus menggunakan bahan kimia berbahaya atau sistem pengeringan yang membutuhkan energi banyak, sehingga menimbulkan polusi udara.
IR berbeda. Ini merupakan metode pengeringan yang “kering”. Tidak ada bahan kimia yang tumpah, tidak ada katalis berbasis timbal—hanya cahaya dan panas saja.
Yang menarik adalah, kita dapat menargetkan panjang gelombang yang diserap oleh air. Dengan demikian, kita tidak perlu membuang-buang energi untuk memanaskan ruang vakum atau bagian logam mesin. Kita hanya memanaskan bagian yang benar-benar perlu dipanaskan. Ini merupakan cara yang lebih efisien, dan juga lebih ramah lingkungan.
Menjaga Keseimbangan
Namun, ini bukanlah hal yang mudah. Agar air bisa menguap dengan cepat, kita perlu menggunakan lampu kuarsa berdaya tinggi. Namun, daya tersebut memiliki efek samping negatif. Jika waktu yang digunakan salah sedikit saja, struktur MEMS bisa rusak. Oleh karena itu, diperlukan kontroler PID yang tepat, serta mekanisme penutup otomatis setelah proses pengeringan selesai.
Menghemat Ruang di Lab
Salah satu keuntungan utamanya adalah penghematan ruang. Karena kita tidak menggunakan saluran udara atau blower besar, maka stasiun pengeringan menjadi lebih kecil. Kita dapat meletakkan pemanas tepat di atas wafer. Dengan demikian, seluruh mesin menjadi lebih kecil, sehingga ruang laboratorium menjadi lebih mudah dikelola. Selain itu, metode ini juga membantu menghemat energi, tanpa menghambat proses produksi. Ini merupakan cara yang lebih efisien untuk membuat alat pengering.