Einführung
Wir haben diese Infrarotlampe für einen bestimmten Zweck entwickelt – nämlich für den Einsatz im Photoresist-Prozess. Es handelt sich um eine Hochleistungs-Halogenlampe, die dazu dient, schnell und kontrolliert Wärme bereitzustellen, wenn man mit Wafern und Substraten arbeitet. Der Sinn dahinter ist einfach: Man erhält die notwendige thermische Energie, damit der Photoresist seine Funktion erfüllen kann – gleichzeitig wird die Arbeit durch geeignete Unterstützung erleichtert.
Der Kern der Lampe
Im Zentrum der Lampe befindet sich ein hochleistungsstarker Halogenstrahler, der in einer kompakten Quarzkapsel untergebracht ist. Dadurch entsteht eine starke Strahlung von Kurzwellen-Infrarotstrahlen, die direkt vom Zielobjekt aufgenommen werden. So geht keine Energie verloren, indem sie die Umgebungsluft erhitzt. Die Leistungsdichte ist hoch, sodass die Temperatur schnell ansteigt – man kann die Temperatur somit genau kontrollieren. Die Lampe ist dafür ausgelegt, anspruchsvolle industrielle Anforderungen zu bewältigen. Zudem passt ihre Bauweise perfekt zu Standard-Einbausystemen – sie kann also einfach eingesetzt werden. Wir haben sie so konzipiert, dass eine stabile Leistung über längere Zeit gewährleistet wird.
Wichtige Materialien
Wir haben uns für einen Quarztubus entschieden, da dieser Hitzebelastungen standhält und Infrarotstrahlen gut durchlässt. Im Inneren sorgt der Halogenstrahler dafür, dass der Filament stabil bleibt – dadurch wird das Verfärben des Filaments vermieden und die Leistung bleibt über Zeit konstant. So können wir eine 24-monatige Garantie auf die Qualität der Lampe unter normalen Betriebsbedingungen bieten.
Verbindungstechnik
Die Lampe verwendet einen R7s-Anschluss – eine bewährte Verbindungstechnik. Dadurch wird die Verkabelung vereinfacht und es entstehen weniger Hotspots an den Anschlüssen. Die Verbindung ist solide und die Installation erfolgt schnell. Es sind keine speziellen Halterungen oder Adapter erforderlich – man muss die Lampe einfach anschließen und schon kann sie verwendet werden.
Anwendungsbereiche
In der Photoresist-Produktion liefert diese Lampe die schnelle, gezielte Erwärmung, die für die Vorbereitung sowie Nachbehandlung der Wafer benötigt wird. Die Kurzwellenstrahlung ermöglicht es den Ingenieuren, wiederholbare Temperaturprofile zu erzielen – dadurch werden weniger beschädigte Wafer produziert und die Produktivität bleibt konstant. Falls etwas schiefgeht – zum Beispiel durch einen Defekt der Lampe oder abweichende Prozessparameter – bieten wir 24-Stunden-Technikunterstützung. So können Sie schnell wieder mit der Produktion fortfahren.
Was man beachten muss
Aufgrund der hohen Leistungsdichte braucht die Lampe eine richtige Unterstützung. Stellen Sie sicher, dass die Kühl- und Stromversorgung Ihrer Maschine ordnungsgemäß ausgelegt sind. Geben Sie der Lampe ausreichenden Luftzug sowie eine stabile Stromversorgung – dann wird sie zuverlässig funktionieren, ohne vorzeitig auszufallen.