在光刻工艺中，光源与晶圆之间的距离并非无关紧要的细节，而是一个需要精确控制的参数。如果距离过近，会导致热量过高，进而引发光阻剂挥发以及颗粒产生的问题；而如果距离过远，则无法提供足够的热量，导致处理时间延长，效率降低。因此，我们会在设计加热模块时充分考虑这一距离因素，将其视为重要的工艺控制参数。
我们使用石英-卤素光源以及碳纤维增强型发射器来产生短波红外辐射。这样一来，不仅可以实现快速的热响应，还能降低系统的热质量。在有效区域内，晶圆的温度均匀性可保持在±0.1°C以内，而重复性则通过加热板上的闭环测温系统来保障。该设备适用于1级到100级的洁净室环境，所使用的材料和密封件均能确保在加热过程中不会产生任何颗粒物。由于温度能够保持稳定，无论是更换晶圆还是进行其他操作，其参数都不会发生变化。
这样做的优点在于：关键尺寸的稳定性得到保障，缺陷减少，返工率也随之降低。此外，由于光源是按需启动并迅速冷却的，因此能耗也会降低。从运行记录来看，这些设备的运行时间可达5,000小时以上，且性能偏差小于5%，同时也没有因加热模块问题导致的非计划停机情况。如此一来，生产计划就可以完全依赖化学处理和曝光过程，而不必担心烤箱的恢复问题。
虽然该模块体积较小，但仍然需要足够的空气流通空间以及维护空间。建议在进气侧预留200毫米的空间。该模块可以通过标准法兰和24伏电路进行集成，不过其控制参数必须根据所使用的光阻层和基材结构来进行调整。调试过程也很简单，只需调整PID参数及发射率补偿值即可。