Assécher les wafer de MEMS sans problèmes
Lorsque l’on s’occupe de l’assèchement des wafer de capteurs MEMS, on joue en fait à un jeu très risqué : il faut éviter à tout prix que le capteur ne soit endommagé. Il est nécessaire d’éliminer l’humidité, mais il ne faut pas laisser de résidus derrière soi. De plus, il ne faut surtout pas exercer une trop grande pression mécanique sur le wafer, afin d’éviter qu’il ne se déforme.
C’est pourquoi nous utilisons des chauffages infrarouges à courte longueur d’onde. Au lieu d’utiliser de l’air chaud pour évaporer l’humidité (méthode de convection), les chauffages infrarouges utilisent des rayonnements. C’est une méthode plus directe : on cible directement les molécules d’eau présentes à la surface du wafer et on leur ordonne de bouger.
Nettoyage du processus
Les méthodes traditionnelles d’assèchement sont souvent complexes. Il faut soit utiliser des solvants chimiques agressifs, soit des systèmes à air forcé qui consomment beaucoup d’énergie et qui émettent des COV partout autour d’eux.
Les chauffages infrarouges, eux, permettent un assèchement “sans danger”. Pas de produits chimiques qui fuient, pas de catalyseurs au plomb… Juste de la lumière et de la chaleur.
Et voici la meilleure chose : nous ciblons les bandes d’absorption spécifiques de l’eau. Nous ne gaspillons donc pas d’électricité à chauffer la chambre sous vide ou la structure métallique de la machine. Nous ne chauffons que ce qui doit vraiment être chauffé. C’est efficace, et cela est également plus écologique.
L’équilibre à trouver
Ce n’est pas tout à fait magique. Pour que l’eau s’évapore rapidement, nous utilisons des lampes en quartz à haute puissance. Elles fournissent une chaleur intense au wafer.
Mais cette puissance est un double tranchant. Si le timing n’est pas parfait, les structures MEMS peuvent être endommagées. Il faut donc un contrôleur PID très précis, ainsi que des dispositifs qui ferment immédiatement dès que la tâche est terminée.
Économiser de l’espace en laboratoire
L’un des avantages majeurs ? L’espace requis pour installer l’équipement. Comme nous n’utilisons pas de conduits volumineux ou de ventilateurs géants, la station d’assèchement prend moins de place. On peut placer les éléments de chauffage juste au-dessus du support du wafer. Cela rend toute la machine plus compacte. De plus, cela facilite la gestion de la salle propres. Et tout cela sans ralentir la production. C’est simplement une manière plus rationnelle de concevoir cet équipement.