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		<title>Evaporation on Global Infrared Heating Systems</title>
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				<title>晶圆凸点的熔融蒸发</title>
				<link>http://ir-heat-global.com/zh/posts/flux-evaporation-for-wafer-bump/</link>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-global.com/images/1764273a9805a56244015746cb190d47.png&#34; alt=&#34;晶圆凸点的熔融蒸发&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;在芯片凸点制作过程中，助焊剂残留&lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;并非只是外&lt;/a&gt;观上的问题，它实际上会降低生产效率。只要蒸发区域出现一处温度过低的点，助焊剂就无法完全蒸发掉。这样一来，焊球就容易错位，回流焊过程也会受到影响。我们设计的助焊剂蒸发加热平台正是为了解决这些问题——在该平台上，温度控制至关重要，每块晶圆都必须经过重复处理才能达到标准。&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;真正重要的是系统的工作原理：该系统利用石英-卤素发射器发出的短波红外光来加热晶圆，而闭环控制系统则确保整个200/300毫米的晶圆表面温度保持在±0.1°C的范围内。系统的响应速度极快，因此可以精准地控制加热过程，避免出现偏差。该系统还具备1级到100级的洁净室标准，其设计充分&lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;考虑了颗粒&lt;/a&gt;控制的要求：使用低气味的材料、配备HEPA过滤装置，同时确保表面光滑无裂缝。在5,000小时以上的使用过程中，系统的重复精度可控制在≤0.2%以内。此外，该系统还支持SECS/GEM标准，便于实现工艺参数的精确控制。&lt;/p&gt;</description>
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