http://ir-heat-global.com/zh/tags/%E6%B0%A7%E5%8C%96/ Recent content in 氧化 on Global Infrared Heating Systems Hugo zh Thu, 18 Jun 2026 04:36:37 +0800 http://ir-heat-global.com/zh/posts/wafer-oxidation-heating-element/ Thu, 18 Jun 2026 04:36:37 +0800 http://ir-heat-global.com/zh/posts/wafer-oxidation-heating-element/ <p><img src="http://ir-heat-global.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png" alt="晶圆氧化加热元件"></p> <p>在制造过程中，良率实际上取决于温度控制的精确程度。如果烘烤温度出现波动，就会导致线宽出现不均匀现象。而在氧化过程中，如果某个区域温度过低，就会导致栅极氧化层不稳定。我们设计了专门的加热元件来应对这些问题——因为必须确保关键位置的温度始终处于受控状态。</p>