Wafer on Global Infrared Heating Systems

Bộ phản quang cho đèn làm khô wafer

Sat, 25 Jul 2026 05:16:20 +0800

Làm thế nào để xử lý việc sấy khô wafer một cách hiệu quả? Điều quan trọng nhất chính là bộ phản chiếu ánh sáng.

Hầu hết chúng ta đều sử dụng phương pháp sấy khô bằng tia hồng ngoại vì phương pháp này không gây ô nhiễm môi trường. Không cần sử dụng chất hóa học hay quá trình đốt cháy – chỉ cần sử dụng điện để tạo ra nhiệt. Điều này giúp giữ cho quy trình sản xuất “xanh” và tuân thủ các quy định về việc loại bỏ chất lead trong sản phẩm.

Cảm biến nhiệt độ dành cho dụng cụ xử lý wafer

Thu, 23 Jul 2026 12:08:20 +0800

Làm thế nào để sử dụng công nghệ hồng ngoại một cách hiệu quả trong việc xử lý vật liệu không chứa chì

Nếu bạn đang làm việc với các thiết bị xử lý wafer và phải tuân thủ những quy định nghiêm ngặt về môi trường, thì có lẽ bạn đã nhận ra rằng các lò sưởi kiểu truyền thống không còn phù hợp nữa. Chúng hoạt động chậm, và tiêu tốn rất nhiều năng lượng.

Cảm biến hồng ngoại chính xác dành cho wafer

Thu, 23 Jul 2026 12:02:01 +0800

Hãy ngừng lãng phí năng lượng: Cách tốt hơn để xử lý bức xạ hồng ngoại trong các thiết bị chế tạo wafer
Các bóng đèn hồng ngoại thông thường gây ra nhiều vấn đề. Chúng phát ra nhiệt ở mọi hướng – tức là 360 độ. Khi làm việc bên trong buồng xử lý wafer, điều này trở thành một vấn đề lớn. Bạn cố gắng làm nóng wafer, nhưng một lượng lớn năng lượng lại bị lãng phí và va vào các bức tường bên trong thiết bị. Kết quả là thân máy trở nên quá nóng, có thể gây bỏng cho người vận hành. Hệ thống làm mát cũng phải hoạt động hết công suất để ngăn máy bị hỏng. Đó là sự lãng phí năng lượng và gây phiền toái cho người vận hành.

Bộ sưởi wafer tiết kiệm năng lượng

Sun, 19 Jul 2026 16:14:00 +0800

Tại sao chúng ta lại thay thế các bộ sưởi kháng điện bằng hệ thống sưởi bằng tia hồng ngoại trong các nhà máy thông minh?

Nếu bạn đang lên kế hoạch xây dựng một nhà máy thông minh, chắc hẳn bạn đã nhận ra rằng những bộ sưởi kháng điện truyền thống chỉ gây cản trở cho quá trình sản xuất mà thôi. Chúng có cấu tạo phức tạp và kém hiệu quả. Chúng tôi chuyển sang sử dụng hệ thống sưởi bằng tia hồng ngoại vì chúng phù hợp tốt với môi trường số hóa. Hệ thống này hoạt động không cần tiếp xúc trực tiếp, có độ chính xác cao, và phù hợp với cách làm việc của chúng ta ngày nay.

Máy sấy wafer cảm biến MEMS

Sat, 11 Jul 2026 09:12:32 +0800

Làm khô các tấm wafer MEMS một cách hiệu quả mà không gây ra vấn đề gì

Khi làm khô các tấm wafer cảm biến MEMS, bạn thực chất đang chơi một trò chơi đầy thách thức: phải loại bỏ hết độ ẩm trên bề mặt wafer, nhưng đồng thời không được để lại bất kỳ chất bẩn nào, và cũng không được tạo ra áp lực quá lớn lên wafer, gây ra hiện tượng biến dạng.

Tại sao lại sử dụng tia hồng ngoại trong quy trình xử lý wafer

Fri, 03 Jul 2026 09:17:44 +0800

Trong quá trình sản xuất, hiện tượng dịch chuyển nhiệt không chỉ thể hiện rõ trên biểu đồ mà còn gây ảnh hưởng tiêu cực đến chất lượng sản phẩm. Chỉ cần nhiệt độ thay đổi 2°C trong quá trình sấy phim quang học, điều đó đã có thể làm mất đi toàn bộ kết quả sản xuất. Còn trong quá trình sấy wafer, sẽ xuất hiện những vết bẩn và các hạt bám vào bề mặt wafer. Phương pháp sử dụng tia hồng ngoại giúp khắc phục được những vấn đề này.

Quá trình bay hơi của chất lỏng trên các điểm nối trên wafer

Thu, 02 Jul 2026 09:16:15 +0800

Trên quy trình tạo các điểm nối trên wafer, việc còn sót lại chất dung môi không phải là vấn đề về mặt thẩm mỹ; đó là nguyên nhân khiến hiệu suất sản xuất bị giảm sút. Chỉ cần có một điểm lạnh trong khu vực bay hơi của chất dung môi, thì chất dung môi sẽ không thể bay hơi hết. Các viên hàn cũng sẽ bị lệch vị trí, và quy trình gia nhiệt để làm chảy chất hàn cũng sẽ bị sai lệch. Chúng tôi đã thiết kế nền tảng gia nhiệt dành cho quy trình này, với điều kiện nhiệt độ phải được kiểm soát chặt chẽ; mỗi wafer đều cần được xử lý lại nhiều lần.

Ốc cắm đèn hồng ngoại dành cho dụng cụ xử lý wafer

Tue, 30 Jun 2026 05:24:40 +0800

Trong quy trình in ấn trên wafer, ngay cả sự thay đổi nhiệt độ chỉ 0,5 độ cũng có thể làm sai lệch các kích thước quan trọng, dẫn đến việc phải vứt bỏ toàn bộ sản phẩm được sản xuất ra. Không thể thương lượng về mức nhiệt được sử dụng trong quy trình này. Chúng tôi đã thiết kế bộ đèn hồng ngoại này để giúp duy trì nhiệt độ chính xác trong suốt quá trình sản xuất – đúng mức, đúng thời điểm, và đối với từng wafer riêng lẻ.

Quy trình đốt kết tinh polyimide trong sản xuất wafer

Sat, 27 Jun 2026 05:10:46 +0800

Trong quy trình sản xuất tại các nhà máy lớn, việc làm khô chất polyimide không chỉ đơn thuần là một bước xử lý nhiệt thông thường. Đó là yếu tố quan trọng giúp đảm bảo tính ổn định về kích thước của các chi tiết được chế tạo. Nếu quy trình nung không diễn ra đúng như dự kiến, áp lực sẽ xuất hiện, kích thước của các chi tiết sẽ thay đổi, và điều này ảnh hưởng tiêu cực đến chất lượng sản phẩm, ngay cả trong các bước chế tạo sau này. Khi điều này xảy ra, bạn không chỉ mất đi một lô sản phẩm, mà còn mất đi khả năng linh hoạt trong lịch trình sản xuất, cùng với nguồn lực dành cho việc duy trì môi trường sản xuất sạch – thứ mà bạn không thể phí phạm được.

Thành phần gia nhiệt để oxy hóa wafer

Thu, 18 Jun 2026 04:36:37 +0800

Trong quy trình sản xuất wafer, độ chính xác trong việc kiểm soát nhiệt độ là rất quan trọng. Nếu nhiệt độ không được kiểm soát tốt, độ dày của lớp phủ trên bề mặt wafer sẽ bị thay đổi. Việc có điểm lạnh trong quá trình oxy hóa cũng khiến lớp oxit trở nên không ổn định. Chúng tôi đã thiết kế các bộ phận gia nhiệt dành riêng để khắc phục những vấn đề này – bởi vì việc kiểm soát nhiệt độ ở những vị trí quan trọng là điều cực kỳ cần thiết.

Khoảng cách an toàn khi làm nóng wafer

Wed, 17 Jun 2026 16:12:38 +0800

Trong quy trình in ấn bằng phương pháp litography, khoảng cách giữa bóng đèn và tấm wafer không phải là yếu tố không quan trọng – đó chính là thông số cần được điều chỉnh một cách chính xác. Nếu khoảng cách quá gần, sẽ dẫn đến tình trạng nhiệt độ tăng quá mức, khí từ chất chống phản ứng hóa học thoát ra ngoài, và xuất hiện nhiều hạt bụi. Ngược lại, nếu khoảng cách quá xa, việc nung tấm wafer sẽ không hiệu quả, thời gian nung sẽ kéo dài, và chu kỳ sản xuất sẽ bị ảnh hưởng. Chúng tôi thiết kế các mô-đun gia nhiệt dựa trên khoảng cách này, coi đó là yếu tố then chốt trong quy trình kiểm soát.