<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Oxid Hóa on Global Infrared Heating Systems</title>
		<link>http://ir-heat-global.com/vi/tags/oxid-h%C3%B3a/</link>
		<description>Recent content in Oxid Hóa on Global Infrared Heating Systems</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>vi</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Thu, 18 Jun 2026 04:36:37 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-global.com/vi/tags/oxid-h%C3%B3a/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Thành phần gia nhiệt để oxy hóa wafer</title>
				<link>http://ir-heat-global.com/vi/posts/wafer-oxidation-heating-element/</link>
				<pubDate>Thu, 18 Jun 2026 04:36:37 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-global.com/vi/posts/wafer-oxidation-heating-element/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-global.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png&#34; alt=&#34;Thành phần gia nhiệt để oxy hóa wafer&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;Trong&lt;/a&gt; quy trình sản xuất wafer, độ chính xác trong việc kiểm soát nhiệt độ là rất quan trọng. Nếu nhiệt độ không được kiểm soát tốt, độ dày của lớp phủ trên bề mặt wafer sẽ bị thay đổi. Việc có điểm lạnh trong quá trình oxy hóa cũng khiến lớp oxit trở nên không ổn định. Chúng tôi đã thiết kế các bộ phận gia nhiệt dành riêng để khắc phục những vấn đề này – bởi vì việc kiểm soát nhiệt độ ở những vị trí quan trọng là điều cực kỳ cần thiết.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
