http://ir-heat-global.com/uk/tags/%D0%BE%D0%BA%D0%B8%D1%81%D0%BD%D0%B5%D0%BD%D0%BD%D1%8F/ Recent content in Окиснення on Global Infrared Heating Systems Hugo uk Thu, 18 Jun 2026 04:36:37 +0800 http://ir-heat-global.com/uk/posts/wafer-oxidation-heating-element/ Thu, 18 Jun 2026 04:36:37 +0800 http://ir-heat-global.com/uk/posts/wafer-oxidation-heating-element/ <p><img src="http://ir-heat-global.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png" alt="Елемент нагріву для оксидування ваферів"></p> <p>На заводі продуктивність залежить від точності контролю температури. Якщо температура під час процесу нагрівання змінюється, це призводить до неоднорідності товщини шару. А якщо під час окислення виникають „холодні точки“, це також призводить до нестабільності структури оксиду. Ми розробили спеціальні елементи для нагріву пластин, які допомагають уникнути цих проблем – адже температура мусить контролюватися саме там, де це важливо.</p> <p><strong>Що є важливим з технічної точки зору</strong><br> Ми використовуємо короткохвильове інфрачервоне випромінювання з емітером на основі кварцу, який має правильні розміри для компенсації діаметру пластини та параметрів обладнання. Рівномірність температури на всій поверхні пластини становить ±0,1°C. Контроль температури забезпечує однорідність профілю фотоелектроліту в кожній партії продукції. Сумісність з чистими приміщеннями – це не просто слоган: ми використовуємо матеріали з мінімальним вивільненням газів та конструкції, які підходять для роботи в умовах класу чистоти 1–100. Ефективність пристрою залишається стабільною протягом понад 5 000 годин, а відхилення температури не перевищує 5%.</p>