http://ir-heat-global.com/uk/tags/%D0%B1%D0%B5%D0%B7%D0%BF%D0%B5%D0%BA%D0%B0/ Recent content in Безпека on Global Infrared Heating Systems Hugo uk Wed, 17 Jun 2026 16:12:38 +0800 http://ir-heat-global.com/uk/posts/safety-distance-for-wafer-heating/ Wed, 17 Jun 2026 16:12:38 +0800 http://ir-heat-global.com/uk/posts/safety-distance-for-wafer-heating/ <p><img src="http://ir-heat-global.com/images/016cf4f616aaa15e4af48856b8adc51b.png" alt="Безпечна відстань для нагрівання пластини"></p> <p>На станції літографії відстань між лампою та пластинкою є критично важливою – це параметр, який необхідно правильно налаштувати. Якщо відстань занадто мала, це призводить до теплового перегріву, випаровування фотополімеру та появи частинок. Якщо ж відстань занадто велика, це ускладнює процес обробки, оскільки для досягнення бажаних результатів потрібно більше енергії, а час обробки збільшується. Ми проектуємо наші нагрівальні модулі з урахуванням цієї відстані, вважаючи її ключовим параметром контролю процесу.</p> <p>Ми використовуємо короткочастотне інфрачервоне світло з кварцово-галогенним джерелом та емітером, виготовленим з вуглецевих волокон. Це забезпечує швидку реакцію на зміни температури при низькій тепломасі. У активній зоні однорідність температури на поверхні пластинки становить ±0,1°C. Повторюваність результатів забезпечується завдяки системі контролю температури. Платформа підходить для роботи в чистих приміщеннях класу 1–100. Матеріали та герметики вибираються так, щоб під час обробки не виникало жодних частинок. Профілі температурного контролю залишаються в межах допусків, оскільки температура залишається стабільною навіть під час зміни пластинок.</p>