http://ir-heat-global.com/tr/tags/oksidasyon/ Recent content in Oksidasyon on Global Infrared Heating Systems Hugo tr Thu, 18 Jun 2026 04:36:37 +0800 http://ir-heat-global.com/tr/posts/wafer-oxidation-heating-element/ Thu, 18 Jun 2026 04:36:37 +0800 http://ir-heat-global.com/tr/posts/wafer-oxidation-heating-element/ <p><img src="http://ir-heat-global.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png" alt="Wafersin oksidasyonu için kullanılan ısıtma elemanı"></p> <p>Üretim sürecinde verimlilik, derecelerle ölçülür. Fırın sıcaklığında meydana gelen değişiklikler, çizgi genişliklerini etkiler. Oksidasyon sırasında soğuk <a href="https://goldisgood.com">noktalar</a> oluşursa, bu durum dengesiz bir kapı oksidi oluşmasına neden olur. Biz de bu tür durumları önlemek için özel ısıtıcı elemanlar geliştirdik; çünkü ısı kontrolü, en kritik noktalarda sağlanmalıdır.</p> <p><strong>Teknik açıdan önemli olanlar</strong> Hızlı tepki veren kuvars emisörler kullanarak kısa dalga boyundaki kızılötesi ışık kullanılır. Bu emisörlerin boyutları, wafer’in çapına ve ekipmanın yapısına uygun olarak ayarlanır. Wafer üzerindeki sıcaklık homojenliği ±0,1°C civarındadır. Ayrıca, fotorezist profilinin her seferinde sabit kalması için sıcaklık <a href="https://henruite.com">kontrolleri</a> düzenli olarak tekrarlanır. Temiz oda koşulları da önemlidir; biz ultra-düşük gaz salınımı yapan malzemeler ve 1–100 sınıfı ortamlarda bile işlevsel olan yapılar kullanıyoruz. Çıktı, 5.000 saatten fazla süre boyunca stabil kalır ve sıcaklık değişiklikleri %5’in altında tutulur.</p>