Элемент нагрева для окисления ваферов

Thu, 18 Jun 2026 04:36:37 +0800

На производственном участке показатель качества продукции определяется с точностью до нескольких градусов. Если температура нагрева изменяется, это приводит к неоднородности толщины слоев на пластине. А если во время окисления возникают зоны с недостаточной температурой? Это приводит к нестабильности структуры оксида на поверхности пластины. Мы разработали специальные элементы нагрева для окисления пластин, чтобы избежать подобных проблем — ведь контроль температуры крайне важен именно в этом месте.

Что имеет значение с технической точки зрения
Мы используем инфракрасное излучение коротких волн с быстрореагирующим кварцевым излучателем. Размеры излучателя соответствуют диаметру пластин и размерам оборудования. На всей поверхности пластины температура сохраняется на уровне ±0,1°C, а процесс нагрева контролируется таким образом, чтобы профиль покрытия оставался одинаковым при производстве большого количества пластин. Совместимость с чистыми условиями производства — это не просто слоган: мы используем материалы с минимальным уровнем выделения газов и конструкцию, которая обеспечивает стабильную работу в условиях классов чистоты 1–100. Рабочая эффективность оборудования остается стабильной в течение более 5 000 часов, при этом отклонения температуры не превышают 5%.

Окисление on Global Infrared Heating Systems

Элемент нагрева для окисления ваферов