<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Обработка on Global Infrared Heating Systems</title>
		<link>http://ir-heat-global.com/ru/tags/%D0%BE%D0%B1%D1%80%D0%B0%D0%B1%D0%BE%D1%82%D0%BA%D0%B0/</link>
		<description>Recent content in Обработка on Global Infrared Heating Systems</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ru</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Fri, 03 Jul 2026 09:17:44 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-global.com/ru/tags/%D0%BE%D0%B1%D1%80%D0%B0%D0%B1%D0%BE%D1%82%D0%BA%D0%B0/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Зачем использовать инфракрасное излучение для обработки пластин</title>
				<link>http://ir-heat-global.com/ru/posts/why-use-infrared-for-wafer-processing/</link>
				<pubDate>Fri, 03 Jul 2026 09:17:44 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-global.com/ru/posts/why-use-infrared-for-wafer-processing/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-global.com/images/e359da41a435291bc4b653b358552252.png&#34; alt=&#34;Зачем использовать инфракрасное излучение для обработки пластин&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;На производственной линии термические колебания не только отражаются на графиках — они также снижают качество изделий. Изменение температуры на 2°C во время процесса просушки фоторезиста может свести на нет все усилия, приложенные для правильной литографии. Если во время сушки пластины возникает зона низкой температуры, на поверхности появляются полосы и частицы, которые прилипают к поверхности пластины. Инфракрасное нагревание помогает избежать этих проблем.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Что действительно важно с технической точки зрения&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Инфракрасное излучение направляется туда и в то время, когда это необходимо, без создания чрезмерно высоких температур в камере. Наши излучатели быстро нагревают материал, что позволяет поддерживать стабильную температуру на уровне ±0,1°C по всей поверхности пластины. Создание чистых условий в классе 1–100 возможно благодаря использованию материалов с минимальным выбросом газов и отсутствием частиц. Процессы просушки фоторезиста проходят стабильно, с строгим соблюдением технологических параметров. Система рассчитана на круглосуточную работу с периодическим техническим обслуживанием, что не нарушает график производства.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
