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		<title>Segurança on Global Infrared Heating Systems</title>
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		<description>Recent content in Segurança on Global Infrared Heating Systems</description>
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				<title>Distância de segurança para aquecimento da wafer</title>
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				<pubDate>Wed, 17 Jun 2026 16:12:38 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-global.com/images/016cf4f616aaa15e4af48856b8adc51b.png&#34; alt=&#34;Distância de segurança para aquecimento da wafer&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Na área de litografia, a distância entre a lâmpada e a wafer não é algo secundário – é um parâmetro que precisa ser ajustado corretamente. Se a distância for muito pequena, ocorre o fenômeno de escape térmico, liberação de gases do fotoresista e aumento da presença de partículas. Se a distância for muito grande, a eficiência do processo diminui, pois não há energia suficiente para proceder com os processos necessários, e o tempo de ciclo aumenta. Nós &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;projetamos&lt;/a&gt; nossos módulos de aquecimento levando em conta essa distância, considerando-a como um parâmetro importante no controle do processo.&lt;/p&gt;</description>
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