Por que usar infravermelho no processamento de wafers

Fri, 03 Jul 2026 09:17:44 +0800

Na linha de produção, a deriva térmica não se reflete apenas nos gráficos – ela também afeta negativamente a qualidade do produto final. Uma variação de 2°C durante o processo de secagem do fotoresist pode anular todo o esforço feito na litografia. E se houver zonas frias durante a secagem do wafer? Isso resultará em marcas e partículas que “grudam” no wafer. O aquecimento por infravermelho resolve esses problemas.

O que é importante, tecnicamente falando
O infravermelho entrega energia exatamente onde e quando é necessário, sem tornar a câmara muito quente. Nossos emissores de infravermelho atuam rapidamente sobre o substrato, permitindo manter a estabilidade da temperatura dentro de ±0,1°C em todo o wafer. É possível atingir as condições de um ambiente limpo de classe 1–100, pois os componentes utilizados são feitos de materiais que não liberam gases e não produzem partículas. Os perfis de secagem do fotoresist são reproduzíveis, com tolerâncias muito baixas. Além disso, o sistema foi projetado para funcionar 24/7, com intervalos de manutenção planejados, sem interromper o processo de produção.

Processamento on Global Infrared Heating Systems

Por que usar infravermelho no processamento de wafers