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		<title>Controlador on Global Infrared Heating Systems</title>
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		<description>Recent content in Controlador on Global Infrared Heating Systems</description>
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				<title>Controlador de secador infravermelho digital</title>
				<link>http://ir-heat-global.com/pt/posts/digital-infrared-dryer-controller/</link>
				<pubDate>Tue, 23 Jun 2026 00:30:58 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-global.com/images/e359da41a435291bc4b653b358552252.png&#34; alt=&#34;Controlador de secador infravermelho digital&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Na linha de produção, o processo de secagem do fotoresist não é apenas mais um passo no processo de fabricação. É, na verdade, um ponto crítico no processo. Uma variação de 1°C durante o processamento do fotoresist já é suficiente para causar alterações nas dimensões dos componentes, gerar defeitos e fazer com que todo o lote seja descartado. Por isso, desenvolvemos o Controlador Digital de Secagem por Infravermelho, para eliminar esse risco térmico.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;O que é importante, do ponto de vista técnico:&lt;/strong&gt;&#xA;O controlador utiliza um sensor NIR de circuito fechado, combinado com um emissor de resposta rápida, para &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;manter&lt;/a&gt; a temperatura dentro de uma margem de ±0,1°C em toda a superfície da wafer. Isso permite obter perfis de secagem &lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;consistentes&lt;/a&gt; para o fotoresist. Além disso, o controle de rampa mantém a velocidade de evaporação do solvente constante, evitando assim problemas relacionados à formação de camadas inconsistentes na superfície da wafer.&lt;/p&gt;</description>
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