Wafel on Global Infrared Heating Systems

Reflector voor wafer curinglamp

Sat, 25 Jul 2026 05:16:20 +0800

Het juist uitvoeren van het drogen van schijven: het gaat allemaal om de reflector

De meesten van ons gebruiken infraroodlicht voor het drogen van halfgeleiders, omdat dit een schone manier is. Er zijn geen chemische oplosmiddelen nodig, en er vindt ook geen verbranding plaats – elektriciteit wordt gewoon omgezet in warmte. Op deze manier blijft alles ‘groen’ en voldoet men aan de regels met betrekking tot het vermijden van lood.

Maar hier is het probleem: de lamp krijgt alle eer, terwijl de reflector degene is die echt het werk doet.

Temperatuursensor voor wafer hulpmiddel

Thu, 23 Jul 2026 12:08:20 +0800

Het correct gebruiken van infraroodstraling voor het drogen zonder lood
Als je werkt met wafeltools en je moet voldoen aan de strenge eisen op het gebied van milieuvriendelijkheid en het vermijden van lood, dan weet je vast al dat traditionele conventionele ovens niet geschikt zijn. Ze zijn traag en verbruiken veel energie.

Daarom gebruiken we nu meestal infraroodstraling voor het drogen. Het geheime is dat infraroodstraling de lucht rondom de wafel helemaal niet hoeft op te warmen. De energie wordt rechtstreeks naar het oppervlak gestuurd.

Precisie IR sensor voor wafer

Thu, 23 Jul 2026 12:02:01 +0800

Stop met het verspillen van je warmte: een betere manier om IR-licht te gebruiken in halfgeleiderapparatuur

Standaard infraroodlampen zijn nogal rommelig. Ze geven warmte af in alle richtingen – namelijk op 360 graden.
Wanneer je binnenin een waferverwerkingskamer werkt, is dat een groot probleem. Je probeert de wafer op te warmen, maar een groot deel van de energie raakt de wafer helemaal niet. De energie ketst juist af op de binnenwanden van de apparatuur.
Het gevolg? Het chassis wordt zo heet dat het zelfs iemand kan branden. Bovendien moet het koelsysteem harder werken om te voorkomen dat de machine oververhit raakt. Het is zowel een verspilling van energie als een last voor de mensen die de apparatuur bedienen.

Energiezuinige plaatverwarmer

Sun, 19 Jul 2026 16:14:04 +0800

Waarom we de traditionele resistieve verwarmingsmethoden vervangen door infraroodverwarming in de ‘Smart Fab’
Als je een ‘Smart Fab’ wilt opzetten, beseffen je vast al dat die ouderwetse resistieve verwarmers alleen maar belemmeringen opleveren. Ze zijn onhandig in gebruik. We hebben gekozen voor efficiënte infraroodsystemen, omdat deze goed werken in een digitale omgeving. Ze zijn contactloos, nauwkeurig en passen perfect bij de manier waarop we nu werken.

Het probleem met ‘thermische inertie’
De nadeel van traditionele verwarmers is dat ze traag zijn. Het duurt lang voordat ze op temperatuur komen, en nog langer voordat ze afkoelen. In een wereld waarin we data-gebaseerde productie nodig hebben, is dit een enorme beperking.

HEATER VOOR DROGEN VAN MEMS SENORSCHIJVEN

Sat, 11 Jul 2026 09:12:33 +0800

Het drogen van MEMS-chips zonder problemen
Wanneer je MEMS-sensorchips droogt, speel je in feite een spel waarbij het belangrijk is om de sensor niet te beschadigen. Je moet alle vocht uit de chips halen, maar je mag geen vuil achterlaten. Ook mag je de chips geen mechanische stress geven die kan leiden tot vervorming.

Daarom maken we gebruik van kortegolflengte-infraroodverwarmers. In plaats van hete lucht te gebruiken, maakt infrarood gebruik van straling. Dit is een meer directe manier om het vocht te verwijderen. Hierdoor kunnen we rechtstreeks de watermoleculen op het oppervlak van de chip bereiken en ze laten bewegen.

Waarom infrarood gebruiken voor waferbewerking

Fri, 03 Jul 2026 09:17:45 +0800

Bij het gebruik van infraroodverwarming wordt de thermische drift niet alleen zichtbaar op de grafiek – deze heeft ook invloed op de kwaliteit van het eindproduct. Een verschil van 2°C tijdens het verhitten van de fotoresist kan al tot grote problemen leiden. Een koude plek tijdens het drogen van de wafer? Dan zie je strepen en deeltjes die zich als lijm aan het oppervlak hechten. Infraroodverwarming helpt om deze problemen te voorkomen.

Wat technisch gezien belangrijk is
Infraroodverwarming brengt de energie precies waar en wanneer het nodig is, zonder dat de kamers oververhit raken. Onze NIR-emitters bereiken het substraat snel, waardoor de temperatuur stabiel blijft binnen een marge van ±0,1°C. Het is mogelijk om een schone omgeving van klasse 1–100 te creëren, omdat de apparatuur is gebouwd met materialen die weinig gassen vrijgeven en geen deeltjes produceren. De parameters voor het verhitten van de fotoresist zijn consistent, en het systeem kan 24/7 worden gebruikt, met planmatige onderhoudsacties die de productie niet belemmeren.

Infraroodlampvoet voor wafergereedschap

Tue, 30 Jun 2026 05:24:40 +0800

Op de lithografieafdeling kan zelfs een kleine temperatuurverandering van een halve graad ertoe leiden dat de cruciale afmetingen veranderen. Dit kan ervoor zorgen dat hele ladingen producten niet meer bruikbaar zijn. De thermische omstandigheden zijn geen aspect dat je kunt onderhandelen. Wij hebben deze infraroodlampontvanger ontworpen voor gebruik in waferbewerkingsapparaten, zodat de procestemperatuur precies op het gewenste niveau blijft – op tijd en voor elke wafer.

Wat belangrijk is: als je deze ontvanger combineert met korte- of middengolflengte-infraroodemitters, verkrijg je snel en effectief warmte. Er wordt sprake van een uniformiteit van ±0,1°C in de verhitting Zone, waardoor de resultaten consistent blijven. De uitgangsstroom blijft stabiel gedurende meer dan 5.000 uur, met een intensiteitsverschil van minder dan 5%.

Veiligheidsafstand voor waferverwarming

Wed, 17 Jun 2026 16:12:38 +0800

Op de lithografieafdeling is de afstand tussen de lamp en de chip geen onbelangrijk detail – het is een instelling die goed moet worden geregeld. Als de afstand te klein is, kan dit leiden tot thermische problemen, uitstoot van chemische stoffen en meer vuil op de chip. Als de afstand te groot is, wordt er minder energie gebruikt, waardoor de productietijd toeneemt. We ontwerpen onze verwarmingselementen met deze afstand in gedachten, waarbij deze afstand wordt gezien als een belangrijk element voor het beheer van het proces.