http://ir-heat-global.com/ms/tags/vakum/ Recent content in Vakum on Global Infrared Heating Systems Hugo ms Thu, 23 Jul 2026 12:15:31 +0800 http://ir-heat-global.com/ms/posts/vacuum-chamber-infrared-heater/ Thu, 23 Jul 2026 12:15:31 +0800 http://ir-heat-global.com/ms/posts/vacuum-chamber-infrared-heater/ <p><img src="http://ir-heat-global.com/images/e359da41a435291bc4b653b358552252.png" alt="Pemanas inframerah untuk bilik vakum"></p> <p><strong>Mengapa Emas Adalah Pilihan Terbaik untuk Pemanas Inframerah</strong><br> Jika anda memanaskan wafer silikon dalam keadaan vakum, anda pasti akan menyedari bahawa peraturan biasa tidak lagi berlaku. Tiada udara yang boleh digunakan untuk mengalirkan haba, jadi proses konveksi tidak dapat berlaku. Anda perlu bergantung sepenuhnya pada proses radiasi untuk memanaskan wafer tersebut.</p> <p>Masalahnya ialah, jika anda menggunakan reflektor yang diperbuat daripada aluminium atau keluli tahan karat biasa, maka anda sebenarnya sedang membazir wang. Sebahagian besar tenaga yang digunakan akan hilang begitu sahaja, bukannya sampai ke wafer tersebut.</p> http://ir-heat-global.com/ms/posts/vacuum-compatible-infrared-heater/ Wed, 03 Jun 2026 12:33:54 +0800 http://ir-heat-global.com/ms/posts/vacuum-compatible-infrared-heater/ <p><img src="http://ir-heat-global.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png" alt="Pemanas inframerah yang sesuai untuk vakum"></p> <p>Pada tingkat litografi, anda sudah tahu bagaimana keadaannya: perubahan suhu bakar sebanyak setengah darjah dan CD anda mula berubah. Satu zarah, dan anda membuang lebih dari sekadar wafer. Anda <a href="https://henruite.com">menjalankan</a> soft bake dan hard bake secara berturut-turut, kemudian membersih dan mengeringkan—setiap langkah membawa had terma ke hadapan. Jika pemanas mula berprestasi rendah, hasil akan merosot sebelum metrologi pun menunjukkan tanda.</p> <p><strong>Apa yang kami fokuskan, dari segi teknikal</strong><br> Kami membina pemanas inframerah yang sesuai untuk vakum menggunakan elemen NIR gelombang pendek dan optik kuarza, supaya tenaga terus mengenai wafer <a href="https://o-yate.net">dengan</a> cepat. Sepanjang chuck, keseragaman pada tahap wafer kekal dalam ±0.1°C, dan pengulangan dikawal <a href="https://o-yate.com">melalui</a> kawalan gelung tertutup dengan sensor terkalibrasi yang boleh dikesan ke NIST. Antara muka ruang menggunakan flange CF/ISO-K, dan <a href="https://goldisgood.com">badan</a> pemanas dibina untuk kegunaan bilik bersih Kelas 1–100, dengan pengesahan tiada penghasilan zarah melalui pengiraan zarah in-situ. Ketumpatan kuasa diselaraskan mengikut profil bakar photoresist, dan tindak balas terma adalah cukup pantas untuk mengikuti langkah resipi tanpa lebihan haba.</p>