Unsur on Global Infrared Heating Systems

Unsur pemanas inframerah dalam glovebox

Sat, 25 Jul 2026 05:00:52 +0800

Memanaskan Glovebox Tanpa Menimbulkan Kekacauan
Jika anda bekerja di bilik bersih kelas 100 atau dalam glovebox yang tertutup, anda pasti tahu betapa sukarnya untuk memanaskan ruang tersebut. Menambah haba bukanlah sesuatu yang mudah; ia memerlukan cara yang tepat. Anda tidak boleh membiarkan bahan-bahan tertentu mengeluarkan gas atau serpihan kecil ke dalam proses pengeluaran anda. Satu zarah yang terlepas pun sudah cukup untuk merosakkan keseluruhan proses pengeluaran tersebut.

Itulah sebabnya kami menggunakan kuarsa sintetik berkualiti tinggi untuk komponen inframerah kami. Bahan ini dapat mencegah kemasukan kontaminan logam ke dalam sistem tersebut.

Element pemanas pengganti kelas perlindungan IP65

Thu, 09 Jul 2026 03:24:07 +0800

Pendahuluan
Mari kita terus ke inti perbincangan. Kami mencipta pemanas inframerah ini kerana kami tahu betapa menyakitkannya apabila musim sejuk merosakkan bisnes luar ruang anda. Tempat duduk yang sejuk dan kosong, serta pendapatan yang hilang. Ia sangat mengecewakan.
Jadi, kami mencipta pemanas yang boleh menggantikan pemanas sedia ada dengan mudah. Tujuannya adalah untuk mengubah kawasan luar yang sejuk tersebut menjadi tempat yang boleh menjana pendapatan semula. Dengan cara ini, udara di kawasan tersebut akan menjadi hangat, sehingga orang ramai dapat merasa selesa di sana.

Elemen pemanas kuarsa yang berkualiti tinggi

Wed, 01 Jul 2026 13:15:43 +0800

Pada garis pengeluaran 300mm, perubahan suhu sekecil beberapa darjah sahaja sudah cukup untuk mengganggu kawalan dimensi kritikal bahan yang digunakan. Oleh itu, pemanas perlu sentiasa bersih dan mampu mengekalkan suhu yang ditetapkan dengan tepat, dari satu kitaran ke kitaran yang lain.

Apa yang benar-benar penting
Kami menggunakan unsur pemanas yang diperbuat daripada kwarsa berkualiti tinggi, agar kadar pelepasan gas dan kotoran logam dapat dikurangkan sebanyak mungkin. Bentuk badan kwarsa ini direka agar dapat memberikan respons yang cepat dan stabil, serta memastikan suhu tetap konsisten sepanjang proses pembakaran. Dalam praktiknya, ini bermakna suhu permukaan wafer dapat dikawal dalam lingkungan ±0.1°C. Unsur pemanas ini sesuai digunakan dalam persekitaran bilik bersih bertaraf Class 1 hingga Class 100. Ia juga tidak menghasilkan sebarang zarah apabila beroperasi dalam keadaan stabil. Ketepatan operasinya sangat tinggi, kerana ia dikalibrasikan dengan teliti pada setiap unit yang digunakan.

Elemen pemanas untuk proses oksidasi wafer

Thu, 18 Jun 2026 04:36:37 +0800

Di bilik pengeluaran, tahap keberkesanan proses bergantung pada suhu yang digunakan. Jika suhu semasa proses pembakaran berubah-ubah, ia akan menyebabkan ketidakkonsistenan pada lebar garisan yang terbentuk. Adakah terdapat kawasan yang sejuk semasa proses oksidasi? Itulah yang menyebabkan lapisan oksida menjadi tidak stabil. Kami telah membina elemen pemanas khas untuk mengatasi masalah ini—kerana suhu perlu dikawal dengan teliti di tempat yang penting.

Apa yang penting dari segi teknikal
Kami menggunakan gelombang inframerah pendek bersama emitor kuarsa yang bertindak balas dengan cepat. Saiz emitor ini disesuaikan agar sesuai dengan diameter wafer dan saiz alat yang digunakan. Suhu di seluruh permukaan wafer kekal stabil pada tahap ±0.1°C. Kawalan suhu juga dilakukan secara berulang-ulang, agar profil fotorezist tetap konsisten dari satu kumpulan produk ke kumpulan yang lain. Keserasian dengan bilik bersih bukan sekadar slogan—kami menggunakan bahan yang mengeluarkan gas yang sangat sedikit, serta reka bentuk yang meminimumkan kehadiran zarah-zarah yang boleh merosakkan produk. Prestasi alat ini kekal stabil selama lebih dari 5,000 jam, dengan perubahan suhu yang kurang dari 5%.