http://ir-heat-global.com/ms/tags/oksidasi/ Recent content in Oksidasi on Global Infrared Heating Systems Hugo ms Thu, 18 Jun 2026 04:36:37 +0800 http://ir-heat-global.com/ms/posts/wafer-oxidation-heating-element/ Thu, 18 Jun 2026 04:36:37 +0800 http://ir-heat-global.com/ms/posts/wafer-oxidation-heating-element/ <p><img src="http://ir-heat-global.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png" alt="Elemen pemanas untuk proses oksidasi wafer"></p> <p>Di bilik pengeluaran, tahap keberkesanan proses bergantung pada suhu yang digunakan. Jika suhu semasa proses pembakaran berubah-ubah, ia akan menyebabkan ketidakkonsistenan pada lebar garisan yang terbentuk. Adakah terdapat kawasan yang sejuk semasa proses oksidasi? Itulah yang menyebabkan lapisan oksida menjadi <a href="https://o-yate.net">tidak</a> stabil. Kami telah membina elemen pemanas khas untuk mengatasi masalah ini—kerana suhu perlu dikawal dengan teliti di tempat yang penting.</p> <p><strong>Apa yang penting dari segi teknikal</strong><br> Kami menggunakan gelombang inframerah pendek bersama <a href="https://o-yate.com">emitor</a> kuarsa yang bertindak balas dengan cepat. Saiz emitor ini disesuaikan agar sesuai dengan diameter wafer dan saiz alat yang digunakan. Suhu di seluruh permukaan wafer kekal stabil pada tahap ±0.1°C. Kawalan suhu juga dilakukan secara berulang-ulang, agar profil fotorezist tetap konsisten dari satu kumpulan produk ke kumpulan yang lain. Keserasian dengan bilik bersih bukan sekadar slogan—kami menggunakan bahan yang mengeluarkan gas yang sangat sedikit, serta reka bentuk yang meminimumkan kehadiran zarah-zarah yang boleh merosakkan produk. Prestasi alat ini kekal stabil selama lebih dari 5,000 jam, dengan perubahan suhu yang kurang dari 5%.</p>