<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Keselamatan on Global Infrared Heating Systems</title>
		<link>http://ir-heat-global.com/ms/tags/keselamatan/</link>
		<description>Recent content in Keselamatan on Global Infrared Heating Systems</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Wed, 17 Jun 2026 16:12:38 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-global.com/ms/tags/keselamatan/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Jarak keselamatan untuk pemanasan wafer</title>
				<link>http://ir-heat-global.com/ms/posts/safety-distance-for-wafer-heating/</link>
				<pubDate>Wed, 17 Jun 2026 16:12:38 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-global.com/ms/posts/safety-distance-for-wafer-heating/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-global.com/images/016cf4f616aaa15e4af48856b8adc51b.png&#34; alt=&#34;Jarak keselamatan untuk pemanasan wafer&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di &lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;bahagian&lt;/a&gt; litografi ini, jarak antara lampu dan wafer bukanlah sesuatu yang boleh diabaikan begitu sahaja. Ia merupakan parameter penting yang perlu ditetapkan dengan tepat. Jika jaraknya terlalu dekat, ia akan menyebabkan masalah seperti peningkatan suhu secara mendadak, pelepasan gas dari bahan fotoresist, serta peningkatan jumlah zarah-zarah kecil. Sebaliknya, jika jaraknya terlalu jauh, ia akan mengakibatkan penggunaan tenaga yang tidak mencukupi, masa proses yang lebih lama, dan penurunan kualiti hasil kerja. Kami merancang modul pemanasan berdasarkan jarak ini, dengan menganggapnya sebagai faktor kawalan proses yang penting.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
