<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Guna on Global Infrared Heating Systems</title>
		<link>http://ir-heat-global.com/ms/tags/guna/</link>
		<description>Recent content in Guna on Global Infrared Heating Systems</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Fri, 03 Jul 2026 09:17:45 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-global.com/ms/tags/guna/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Mengapa menggunakan gelombang inframerah untuk pemprosesan wafer</title>
				<link>http://ir-heat-global.com/ms/posts/why-use-infrared-for-wafer-processing/</link>
				<pubDate>Fri, 03 Jul 2026 09:17:45 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-global.com/ms/posts/why-use-infrared-for-wafer-processing/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-global.com/images/e359da41a435291bc4b653b358552252.png&#34; alt=&#34;Mengapa menggunakan gelombang inframerah untuk pemprosesan wafer&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Pada proses pengeluaran, perubahan suhu yang berlaku bukan sahaja dapat dilihat pada graf, tetapi ia juga akan merosakkan kualiti produk yang dihasilkan. Perubahan suhu sebanyak 2°C semasa proses memanaskan &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;bahan&lt;/a&gt; fotoresist boleh merosakkan keseluruhan hasil proses litografi. Jika terdapat kawasan yang sejuk semasa proses &lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;pengeringan&lt;/a&gt; wafer, maka akan timbul garisan dan zarah-zarah yang melekat pada permukaan wafer tersebut. Penggunaan haba inframerah dapat mengatasi masalah-masalah ini.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Apa yang penting dari segi teknikalnya:&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Haba inframerah memastikan tenaga disalurkan ke tempat dan masa yang diperlukan, tanpa menyebabkan bilik pengeluaran menjadi terlalu panas. Emitter inframerah kami mampu memberikan suhu yang stabil dalam lingkungan ±0.1°C pada seluruh permukaan wafer. Kelas bilik bersih 1–100 dapat dicapai kerana peralatan yang digunakan diperbuat daripada bahan yang tidak mengeluarkan gas berbahaya dan tidak menghasilkan zarah-zarah tertentu. Profil pemanasan bahan fotoresist juga dapat dikawal dengan tepat, dan sistem ini direka untuk beroperasi 24/7, dengan jadual penyelenggaraan yang teratur agar tidak mengganggu proses pengeluaran.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
