<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Bahagian Bahagian on Global Infrared Heating Systems</title>
		<link>http://ir-heat-global.com/ms/tags/bahagian-bahagian/</link>
		<description>Recent content in Bahagian Bahagian on Global Infrared Heating Systems</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Wed, 24 Jun 2026 04:24:36 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-global.com/ms/tags/bahagian-bahagian/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Komponen pemanas untuk bahan tahan cahaya UV ekstrem (EUV)</title>
				<link>http://ir-heat-global.com/ms/posts/extreme-uv-euv-resist-heater-parts/</link>
				<pubDate>Wed, 24 Jun 2026 04:24:36 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-global.com/ms/posts/extreme-uv-euv-resist-heater-parts/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-global.com/images/0ea7296bcdd661f341d1983d454c4037.png&#34; alt=&#34;Komponen pemanas untuk bahan tahan cahaya UV ekstrem (EUV)&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Dalam proses litografi EUV, proses pemanasan bahan resist tersebut bukan sekadar langkah biasa sahaja – ia merupakan faktor penting yang mempengaruhi kualiti hasil pengeluaran. Perubahan suhu sebanyak setengah darjah pun boleh menjejaskan kawalan dimensi komponen elektronik tersebut. Sebuah zarah kecil pun boleh merosakkan keseluruhan wafer yang digunakan. Apabila pemanas bahan resist tidak berfungsi dengan baik, ia akan menyebabkan pembaziran bahan, kerja-kerja pembaikan yang perlu dilakukan, serta masa henti operasi yang tidak dijangka.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
