<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>처리 on Global Infrared Heating Systems</title>
		<link>http://ir-heat-global.com/ko/tags/%EC%B2%98%EB%A6%AC/</link>
		<description>Recent content in 처리 on Global Infrared Heating Systems</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ko</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Fri, 03 Jul 2026 09:17:45 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-global.com/ko/tags/%EC%B2%98%EB%A6%AC/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>웨이퍼 처리에 적외선을 사용하는 이유는 무엇인가요</title>
				<link>http://ir-heat-global.com/ko/posts/why-use-infrared-for-wafer-processing/</link>
				<pubDate>Fri, 03 Jul 2026 09:17:45 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-global.com/ko/posts/why-use-infrared-for-wafer-processing/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-global.com/images/e359da41a435291bc4b653b358552252.png&#34; alt=&#34;웨이퍼 처리에 적외선을 사용하는 이유는 무엇인가요&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;생산 라인에서 열 드리프트는 단순히 그래프에만 나타나는 것이 아니라, 실제로 제품의 품질을 저하시킵니다. 포토레지스트를 소프트 베이크할 때 2°C만큼의 온도 변화가 있어도 리소그래피 공정 전체에 악영향을 미칠 수 있습니다. 웨이퍼를 건조할 때 온도가 낮은 부분이 생기면, 접착제처럼 웨이퍼 표면에 얼룩과 입자들이 남게 됩니다. 적외선 가열 방식은 이러한 문제들을 직접적으로 해결해줍니다.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
