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		<title>산화 on Global Infrared Heating Systems</title>
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		<description>Recent content in 산화 on Global Infrared Heating Systems</description>
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				<title>와이어 표면 산화용 가열 소자</title>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-global.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png&#34; alt=&#34;와이어 표면 산화용 가열 소자&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;팹에서는 수율이 몇 도의 차이로 결정됩니다. 굽힘 온도가 변하면 회로선의 굵기도 달라집니다. 산화 과정에서 특정 부분이 차가워지면 게이트 산화막의 안정성이 떨어집니다. 우리는 바로 이러한 문제들을 해결하기 위해 웨이퍼 산화 과정에서 사용되는 가열 요소를 특별히 설계했습니다. 왜냐하면 중요한 부분에서는 열량을 반드시 제어해야 하기 때문입니다.&lt;/p&gt;</description>
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