<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Bump on Global Infrared Heating Systems</title>
		<link>http://ir-heat-global.com/ja/tags/bump/</link>
		<description>Recent content in Bump on Global Infrared Heating Systems</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ja</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Thu, 02 Jul 2026 09:16:15 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-global.com/ja/tags/bump/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>ウェーハバンプのフラックス蒸発</title>
				<link>http://ir-heat-global.com/ja/posts/flux-evaporation-for-wafer-bump/</link>
				<pubDate>Thu, 02 Jul 2026 09:16:15 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-global.com/ja/posts/flux-evaporation-for-wafer-bump/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-global.com/images/1764273a9805a56244015746cb190d47.png&#34; alt=&#34;ウェーハバンプのフラックス蒸発&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;ウェーハバンプ処理において、フラックスの残留は単なる見た目上の問題ではありません。それは生産効率を著しく低下させる要因です。蒸発領域にわずかな低温部分があるだけで、フラックスが完全に除去されないため、はんだ球の位置がずれたり、リフロー時の&lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;温度&lt;/a&gt;プロファイルが乱れたりします。私たちは、このような状況に対応するために、熱管理が&lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;不可欠&lt;/a&gt;であり、すべてのウェーハで同じ条件で処理を行う必要があるという現実に基づいて、フラックスの蒸発を制御するシステムを開発しました。&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
