http://ir-heat-global.com/ja/tags/%E5%AE%89%E5%85%A8%E6%80%A7/ Recent content in 安全性 on Global Infrared Heating Systems Hugo ja Wed, 17 Jun 2026 16:12:38 +0800 http://ir-heat-global.com/ja/posts/safety-distance-for-wafer-heating/ Wed, 17 Jun 2026 16:12:38 +0800 http://ir-heat-global.com/ja/posts/safety-distance-for-wafer-heating/ <p><img src="http://ir-heat-global.com/images/016cf4f616aaa15e4af48856b8adc51b.png" alt="ウェーハ加熱の安全距離"></p> <p>リソグラフィーの工程において、ランプとウェーハの間の距離は単なる細かい調整事項ではありません。これは正しく設定しなければならない重要なパラメータです。距離が近すぎると、熱暴走やフォトレジストからのガス放出、そして粒子の発生が起こります。逆に距離が遠すぎると、十分なエネルギーが供給されず、焼成時間が長くなり、サイクルタイムも無駄になってしまいます。私たちは、この距離を基準に加熱モジュールを設計しており、この距離を主要なプロセス制御パラメータとして扱っています。</p>