<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>力 on Global Infrared Heating Systems</title>
		<link>http://ir-heat-global.com/ja/tags/%E5%8A%9B/</link>
		<description>Recent content in 力 on Global Infrared Heating Systems</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ja</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Mon, 08 Jun 2026 05:20:31 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-global.com/ja/tags/%E5%8A%9B/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>パワーデバイスウエハ加熱ランプ</title>
				<link>http://ir-heat-global.com/ja/posts/power-device-wafer-heating-lamp/</link>
				<pubDate>Mon, 08 Jun 2026 05:20:31 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-global.com/ja/posts/power-device-wafer-heating-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-global.com/images/e619a459508a95cd74ea4eae0be40cd1.png&#34; alt=&#34;パワーデバイスウエハ加熱ランプ&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;ファブフロアでは、ソフトベイクの温度が1℃ずれるだけで、フォトレジストのプロファイルに変化が生じる。ハードベイクをわずかに高温で実行すると、現像後にスカミングが発生する。パワーデバイス用ウェハは大判ダイと厳格な熱予算を持つため、温度の不均一性はエッジビード、CDコントロールの乱れ、そして取り消しできない歩留まりの低下として現れる。&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
