http://ir-heat-global.com/ja/tags/%E3%82%A6%E3%82%A8%E3%83%8F%E3%83%BC/ Recent content in ウエハー on Global Infrared Heating Systems Hugo ja Fri, 03 Jul 2026 09:17:44 +0800 http://ir-heat-global.com/ja/posts/why-use-infrared-for-wafer-processing/ Fri, 03 Jul 2026 09:17:44 +0800 http://ir-heat-global.com/ja/posts/why-use-infrared-for-wafer-processing/ <p><img src="http://ir-heat-global.com/images/e359da41a435291bc4b653b358552252.png" alt="ウェーハ処理で赤外線を使用する理由"></p> <p>生産ラインにおいて、熱によるドリフトは単にグラフ上に現れるだけではありません。実際には、歩留まりを低下させてしまいます。フォトレジストのソフトベイクの際に2℃程度の温度変動があれば、リソグラフィーの精度が台無しになってしまいます。ウエハー<a href="https://o-yate.com">乾燥時</a>に低温部分ができると、接着剤のように付着するスジや粒子が発生します。一方、赤外線加熱なら、こうした問題を<a href="https://goldisgood.com">直接解決</a>できます。</p> http://ir-heat-global.com/ja/posts/infrared-lamp-socket-for-wafer-tool/ Tue, 30 Jun 2026 05:24:40 +0800 http://ir-heat-global.com/ja/posts/infrared-lamp-socket-for-wafer-tool/ <p><img src="http://ir-heat-global.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png" alt="ウェーハツール用赤外線ランプソケット"></p> <p>リソグラフィー装置では、わずか0.5度の<a href="https://o-yate.net">温度</a>変動でも、重要な寸法が狂ってしまい、大量のウェーハが廃棄されることになります。熱管理は、交渉の対象ではありません。私たちは、ウェーハ処理時の温度を正確に制御するために、この赤外線ランプソケットを開発しました。これにより、すべてのウェーハにおいて、所定の温度が維持されます。</p> <p>内部的に重要なのは、このソケットを短波または中波のNIRエミッターと組み合わせることです。そうすることで、迅速かつ効率的に熱が供給されます。ウェーハ全体での温度均一性は±0.1℃程度であり、これによって柔軟な加熱や強制的な加熱のプロファイルが再現可能になります。出力は5,000時間以上にわたって安定し、<a href="https://henruite.com">強度</a>の変動は5％未満です。</p> http://ir-heat-global.com/ja/posts/power-device-wafer-heating-lamp/ Mon, 08 Jun 2026 05:20:31 +0800 http://ir-heat-global.com/ja/posts/power-device-wafer-heating-lamp/ <p><img src="http://ir-heat-global.com/images/e619a459508a95cd74ea4eae0be40cd1.png" alt="パワーデバイスウエハ加熱ランプ"></p> <p>ファブフロアでは、ソフトベイクの温度が1℃ずれるだけで、フォトレジストのプロファイルに変化が生じる。ハードベイクをわずかに高温で実行すると、現像後にスカミングが発生する。パワーデバイス用ウェハは大判ダイと厳格な熱予算を持つため、温度の不均一性はエッジビード、CDコントロールの乱れ、そして取り消しできない歩留まりの低下として現れる。</p>