http://ir-heat-global.com/it/tags/sicurezza/ Recent content in Sicurezza on Global Infrared Heating Systems Hugo it Wed, 17 Jun 2026 16:12:38 +0800 http://ir-heat-global.com/it/posts/safety-distance-for-wafer-heating/ Wed, 17 Jun 2026 16:12:38 +0800 http://ir-heat-global.com/it/posts/safety-distance-for-wafer-heating/ <p><img src="http://ir-heat-global.com/images/016cf4f616aaa15e4af48856b8adc51b.png" alt="Distanza di sicurezza per il riscaldamento del wafer"></p> <p>Nel processo di litografia, la distanza tra la lampada e il wafer non è un dettaglio trascurabile: si tratta invece di una parametrazione fondamentale che bisogna regolare correttamente. Se la distanza è troppo ridotta, si rischia uno squilibrio termico, l’emissione di gas dal fotorestist e un aumento delle particelle presenti nell’ambiente di lavoro. Se invece la distanza è troppo grande, si riduce l’efficienza del processo, aumentano i tempi di riscaldamento e diminuisce la produttività. I nostri moduli di riscaldamento vengono progettati tenendo conto proprio di questa distanza, considerandola un parametro chiave per il controllo del processo.</p>