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		<title>Perché on Global Infrared Heating Systems</title>
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				<title>Perché utilizzare l infrarosso per la lavorazione dei wafer</title>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-global.com/images/e359da41a435291bc4b653b358552252.png&#34; alt=&#34;Perché utilizzare l infrarosso per la lavorazione dei wafer&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Nel corso dei processi di produzione, lo spostamento termico non si manifesta soltanto sui grafici di controllo: in realtà, esso riduce significativamente la qualità del prodotto finito. Un cambiamento di temperatura di 2°C durante il processo di essiccazione del fotorester può annullare tutti i vantaggi ottenuti grazie alla litografia. Inoltre, la presenza di zone fredde durante l’essiccazione del wafer può causare la formazione di striature e particelle che ostacolano il normale funzionamento del processo. Il riscaldamento a infrarossi permette di affrontare questi problemi.&lt;/p&gt;</description>
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