Riscaldatore a infrarossi compatibile _con il vuoto

Wed, 03 Jun 2026 12:33:54 +0800

Sulla linea di litografia, sapete come va: uno scostamento di mezzo grado nella temperatura di cottura e il vostro CD inizia a variare. Una particella, e state scartando più di un semplice wafer. Eseguite soft bake e hard bake consecutivamente, poi pulite e asciugate—ogni passaggio aggiunge al budget termico. Se il riscaldatore inizia a performare sotto la soglia, la resa cala prima ancora che la metrologia lo segnali.

Su cosa ci siamo concentrati, tecnicamente
Abbiamo costruito un riscaldatore a infrarossi compatibile con il vuoto, basato su elementi NIR a onde corte e ottiche in quarzo, in modo che l’energia colpisca il wafer direttamente e rapidamente. Sulla chuck, l’uniformità a livello wafer resta entro ±0,1°C e la ripetibilità viene garantita da un controllo a ciclo chiuso con sensore calibrato tracciabile a NIST. L’interfaccia della camera prevede flange CF/ISO-K, e il corpo è progettato per l’uso in cleanroom Class 1–100, con generazione di particelle nulla verificata tramite conteggio in-situ. La densità di potenza è regolata per adattarsi ai profili di cottura del photoresist, e la risposta termica è sufficientemente rapida da seguire le fasi della ricetta senza overshoot.

Compatibile on Global Infrared Heating Systems

Riscaldatore a infrarossi compatibile _con il vuoto