<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Keamanan on Global Infrared Heating Systems</title>
		<link>http://ir-heat-global.com/id/tags/keamanan/</link>
		<description>Recent content in Keamanan on Global Infrared Heating Systems</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>id</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Wed, 17 Jun 2026 16:12:38 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-global.com/id/tags/keamanan/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Jarak keamanan untuk pemanasan wafer</title>
				<link>http://ir-heat-global.com/id/posts/safety-distance-for-wafer-heating/</link>
				<pubDate>Wed, 17 Jun 2026 16:12:38 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-global.com/id/posts/safety-distance-for-wafer-heating/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-global.com/images/016cf4f616aaa15e4af48856b8adc51b.png&#34; alt=&#34;Jarak keamanan untuk pemanasan wafer&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di area litografi, jarak antara lampu dan wafer &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;bukanlah&lt;/a&gt; hal yang sepele; melainkan parameter penting yang perlu dikontrol dengan tepat. Jika jaraknya terlalu dekat, maka akan terjadi masalah seperti kerusakan akibat panas berlebih, pelepasan gas dari bahan fotorezistan, serta peningkatan jumlah partikel di udara. Sebaliknya, jika jaraknya terlalu jauh, maka proses pengeringan wafer akan membutuhkan waktu yang lebih lama, sehingga mengurangi efisiensi produksi. Kami merancang modul pemanas sedemikian rupa agar jarak tersebut tetap terjaga, karena hal ini merupakan faktor penting dalam kontrol proses.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
