http://ir-heat-global.com/id/tags/bump/ Recent content in Bump on Global Infrared Heating Systems Hugo id Thu, 02 Jul 2026 09:16:15 +0800 http://ir-heat-global.com/id/posts/flux-evaporation-for-wafer-bump/ Thu, 02 Jul 2026 09:16:15 +0800 http://ir-heat-global.com/id/posts/flux-evaporation-for-wafer-bump/ <p><img src="http://ir-heat-global.com/images/1764273a9805a56244015746cb190d47.png" alt="Fluks evaporasi untuk wafer bump"></p> <p>Pada proses pembentukan “bump” pada wafer, sisa fluks bukanlah masalah estetika saja. Hal ini justru dapat menghambat proses produksi. Jika ada titik dingin di zona penguapan, maka fluks tidak akan hilang sepenuhnya. Bola-bola solder pun akan tidak sejajar. Profil pemanasan selama proses reflow juga akan berubah. Kami merancang platform pemanasan untuk proses penguapan fluks ini dengan memperhatikan kenyataan bahwa batas suhu yang digunakan <a href="https://o-yate.net">sangat</a> penting, dan setiap wafer perlu diproses ulang.</p> <p>Yang benar-benar penting adalah sistem yang digunakan. Sistem ini <a href="https://henruite.com">menggunakan</a> gelombang inframerah <a href="https://goldisgood.com">pendek</a> dari emitor kuarsa-halogen untuk memanaskan wafer. Kontrol berkelanjutan menjaga agar suhu tetap konstan pada kisaran ±0,1°C di seluruh permukaan wafer berukuran 200/300 mm. Respons sistem sangat cepat, sehingga proses pemanasan dapat dilakukan tanpa melebihi batas yang ditentukan. Lingkungan kerja kelas 1–100 didukung oleh struktur yang mampu mengendalikan partikel-partikel kecil, bahan-bahan yang menghasilkan emisi gas yang rendah, sistem HEPA, serta permukaan yang halus tanpa celah. Tingkat repetibilitasnya mencapai ≤0,2% dalam kurun waktu 5.000 jam proses. Platform ini juga dilengkapi dengan fitur SECS/GEM untuk memastikan traksabilitas proses dan kontrol yang akurat.</p>