Mengapa kita menggunakan metode pemanasan inframerah di ruang bersih
Jika Anda bekerja di pabrik semikonduktor, Anda pasti tahu betapa sulitnya situasinya. Anda perlu mengeringkan wafer-wafer tersebut, tetapi Anda tidak boleh membiarkan sedikit pun debu menempel di permukaannya. Itulah sebabnya kita menggunakan metode pemanasan inframerah. Alih-alih menggunakan udara panas yang justru akan menyebarkan partikel-partikel kecil, metode ini menggunakan radiasi elektromagnetik. Energi tersebut langsung sampai ke wafer, tanpa adanya konveksi paksa atau partikel-partikel yang terbang di udara. Dengan demikian, tidak ada masalah yang timbul.
Menangani proses pengeringan tanpa timbal
Beralih ke bahan solder dan lem yang bebas timbal bukanlah hal yang mudah. Bahan-bahan ini memiliki titik leleh yang lebih tinggi, dan bereaksi berbeda ketika dipanaskan. Jika Anda menggunakan oven biasa, Anda berisiko merusak substrat sebelum solder tersebut meleleh. Berbeda dengan metode inframerah; energi tersebut ditargetkan pada wilayah tertentu saja. Prosesnya sangat cepat. Anda tidak perlu memanaskan seluruh ruang oven hanya untuk memanaskan satu bagian saja.
Mengurangi pemborosan energi
Bayangkan oven tradisional—Anda harus menghabiskan banyak uang untuk memanaskan dinding, udara, dan langit-langit oven tersebut. Itu merupakan pemborosan energi. Sebaliknya, lampu inframerah langsung menargetkan objek yang ingin dipanaskan. Karena panasnya tidak perlu melalui media tertentu, waktu prosesnya menjadi lebih singkat. Selain itu, biaya listriknya juga lebih rendah. Anda hanya perlu menyalakan lampu tersebut saat komponen tersebut berada di area yang dituju. Sangat sederhana.
Kekurangan dan cara mengatasinya
Namun, metode ini juga memiliki kekurangan. Intensitas inframerah yang tinggi dapat menghasilkan panas yang sangat besar. Jika sistem pendinginan Anda tidak memadai, maka oven tersebut akan rusak. Jarak antara lampu dan objek yang dipanaskan juga perlu diperhatikan dengan seksama. Perubahan jarak sebesar beberapa milimeter saja sudah cukup untuk membuat permukaan wafer menjadi panas. Namun, hal ini masih bisa diatasi. Kami telah merancang sistem ini agar dapat digunakan sebagai pengganti oven konvensional. Dengan demikian, ruang kerja menjadi lebih bersih, prosesnya lebih cepat, dan pemborosan energi berkurang.