http://ir-heat-global.com/hi/tags/%E0%A4%A4%E0%A4%A4%E0%A5%8D%E0%A4%B5/%E0%A4%98%E0%A4%9F%E0%A4%95/ Recent content in तत्व/घटक on Global Infrared Heating Systems Hugo hi Wed, 01 Jul 2026 13:15:42 +0800 http://ir-heat-global.com/hi/posts/high-purity-quartz-heating-element/ Wed, 01 Jul 2026 13:15:42 +0800 http://ir-heat-global.com/hi/posts/high-purity-quartz-heating-element/ <p><img src="http://ir-heat-global.com/images/c4487c91a5d0bd93963bf8b3a19ba704.png" alt="उच्च शुद्धता वाला क्वार्ट्ज हीटिंग तत्व"></p> <p>300 मिमी लाइन पर, थोड़ा सा भी तापमान-परिवर्तन होने से ही क्रिटिकल डायमेंशन (CD) का नियंत्रण खराब हो जाता है। इसलिए हीटर को हमेशा साफ रखना आवश्यक है, एवं हर बार एक ही स्तर पर तापमान बनाए रखना आवश्यक है।</p> <p><strong>वास्तव में क्या महत्वपूर्ण है?</strong><br> हम उच्च-शुद्धता वाले क्वार्ट्ज से हीटिंग तत्व बनाते हैं, ताकि गैसों एवं धात्विक पदार्थों का प्रवेश न्यूनतम रहे। क्वार्ट्ज का आकार ऐसा ही होता है कि तापमान तेजी से एवं स्थिर रूप से नियंत्रित हो सके।<br> व्यवहार में, इसका अर्थ है कि वेफर का तापमान ±0.1°C के भीतर ही रहता है। यह हीटिंग तत्व क्लास 1 से क्लास 100 तक के क्लीनरूम वातावरण में भी कार्य कर सकता है; एवं स्थिर अवस्था में आने के बाद यह कोई कण भी नहीं उत्पन्न करता। पुनरावृत्ति क्षमता भी बेहतरीन है… क्योंकि प्रत्येक यूनिट का कैलिब्रेशन बहुत ही सटीक रूप से किया जाता है।</p> http://ir-heat-global.com/hi/posts/wafer-oxidation-heating-element/ Thu, 18 Jun 2026 04:36:37 +0800 http://ir-heat-global.com/hi/posts/wafer-oxidation-heating-element/ <p><img src="http://ir-heat-global.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png" alt="वेफर ऑक्सीडेशन हीटिंग एलिमेंट"></p> <p>फैब्रिकेशन प्रक्रिया में, उत्पादन की गुणवत्ता डिग्रियों के आधार पर ही निर्धारित होती है। यदि बेकिंग तापमान में थोड़ा भी बदलाव हो जाए, तो उत्पाद की सतह की गुणवत्ता प्रभावित हो जाती है। ऑक्सीकरण प्रक्रिया के दौरान यदि तापमान कम रह जाए, तो गेट ऑक्साइड की गुणवत्ता प्रभावित हो जाती है। हमने ऐसी स्थितियों से निपटने हेतु विशेष उपकरण विकसित किए हैं… क्योंकि तापमान को नियंत्रित रखना बहुत ही आवश्यक है।</p> <p><strong>तकनीकी दृष्टि से क्या महत्वपूर्ण है?</strong><br> हम शॉर्ट-वेव इन्फ्रारेड तरंगों का उपयोग करते हैं… ऐसे उपकरणों का आकार वेफरों के व्यास एवं उपकरणों की संरचना के अनुरूप होता है। वेफरों पर तापमान की समानता ±0.1°C तक ही रहती है… इससे फोटोरेजिस्ट की गुणवत्ता लगातार बनी रहती है। क्लीनरूम में उपयोग हेतु हम अत्यंत कम गैस उत्सर्जन वाली सामग्रियों का उपयोग करते हैं… ऐसी सामग्रियाँ क्लास 1–100 वाले वातावरण में भी कार्य कर सकती हैं। 5,000 घंटों से अधिक समय तक उत्पादन प्रक्रिया स्थिर रहती है… तापमान में व्यवधान 5% से कम ही रहता है।</p>