http://ir-heat-global.com/he/tags/%D7%97%D7%9E%D7%A6%D7%95%D7%9F/ Recent content in חמצון on Global Infrared Heating Systems Hugo he Thu, 18 Jun 2026 04:36:37 +0800 http://ir-heat-global.com/he/posts/wafer-oxidation-heating-element/ Thu, 18 Jun 2026 04:36:37 +0800 http://ir-heat-global.com/he/posts/wafer-oxidation-heating-element/ <p><img src="http://ir-heat-global.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png" alt="רכיב חימום לחמצון של וופרים"></p> <p>בסביבת הייצור, הדיוק בשליטה בטמפרטורה הוא קריטי. טמפרטורת האפייה שאינה יציבה גורמת לחוסר אחידות בעובי השכבה. נקודות קרות במהלך תהליך החמצון? זה מה שגורם לאוקסיד הגייט להיות לא יציב. עיצבנו את אלמנט החימום שלנו כך שיתמודד עם בעיות אלו – כי השליטה בטמפרטורה חיונית בדיוק בנקודות החשובות.</p> <p><strong>מה חשוב מבחינה טכנית?</strong> אנו משתמשים בקרינת אינפרא-אדום באורך גל קצר, עם גוף פליטה מסוג קוורץ שמגיב במהירות. גודלו של גוף הפליטה מותאם לקוטר הוופר ולמאפייני המכשיר. בכל שטח הוופר, הטמפרטורה נשארת אחידה ברמה של ±0.1°C, והשליטה בעליית הטמפרטורה מאפשרת שהפרופיל של החומר יישאר אחיד מלאט לאט. התאמה לסביבות נקיות אינה רק סיסמה – אנו משתמשים בחומרים בעלי פליטת גזים מינימלית, ובגאומטריה שמאפשרת עבודה בסביבות מסוג Class 1–100. הביצועים נשארים יציבים לאורך 5,000 שעות ויותר, כאשר הסטיות נשארות מתחת ל-5%.</p>