http://ir-heat-global.com/fr/tags/s%C3%A9curit%C3%A9/ Recent content in Sécurité on Global Infrared Heating Systems Hugo fr Wed, 17 Jun 2026 16:12:38 +0800 http://ir-heat-global.com/fr/posts/safety-distance-for-wafer-heating/ Wed, 17 Jun 2026 16:12:38 +0800 http://ir-heat-global.com/fr/posts/safety-distance-for-wafer-heating/ <p><img src="http://ir-heat-global.com/images/016cf4f616aaa15e4af48856b8adc51b.png" alt="Distance de sécurité pour le chauffage de la wafer"></p> <p>Sur le poste de lithographie, l’écart entre la lampe et la wafer n’est pas un détail insignifiant : c’est un paramètre qu’il faut régler avec précision. Si cet écart est trop faible, on risque une surchauffe, une évaporation du photorésistant, ainsi que l’apparition de particules indésirables. Si l’écart est trop grand, on perd en efficacité, car l’énergie utilisée n’est pas suffisante ; de plus, les temps de traitement augmentent, ce qui entraîne des pertes de productivité. Nous concevons nos modules de chauffage en tenant compte de cet écart, en le considérant comme un paramètre essentiel pour le contrôle du processus.</p>