<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Processing on Global Infrared Heating Systems</title>
		<link>http://ir-heat-global.com/fa/tags/processing/</link>
		<description>Recent content in Processing on Global Infrared Heating Systems</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>fa</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Fri, 03 Jul 2026 09:17:44 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-global.com/fa/tags/processing/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>چرا از موجهای مادون قرمز برای فرآوری ویفرها استفاده میشود؟</title>
				<link>http://ir-heat-global.com/fa/posts/why-use-infrared-for-wafer-processing/</link>
				<pubDate>Fri, 03 Jul 2026 09:17:44 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-global.com/fa/posts/why-use-infrared-for-wafer-processing/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-global.com/images/e359da41a435291bc4b653b358552252.png&#34; alt=&#34;چرا از موجهای مادون قرمز برای فرآوری ویفرها استفاده میشود؟&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;در فرآیندهای تولید، اثرات ناشی از تغییرات دمایی صرفاً در نمودارها مشخص نمی‌شوند؛ بلکه به طور پنهانی باعث کاهش کیفیت محصول می‌شوند. تغییر دمایی ۲ درجه سانتی‌گراد در حین فرآیند خشک کردن ویفر، می‌تواند باعث از بین رفتن کل فرآیند لیتوگرافی شود. در صورت وجود نقاط سرد در حین خشک کردن ویفر، خطوط و ذراتی روی سطح ویفر ایجاد می‌شود؛ این ذرات مانند چسب، روی سطح ویفر می‌مانند. گرمایش مادون قرمز می‌تواند این مشکلات را برطرف کند.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
