http://ir-heat-global.com/fa/tags/device/ Recent content in Device on Global Infrared Heating Systems Hugo fa Mon, 08 Jun 2026 05:20:31 +0800 http://ir-heat-global.com/fa/posts/power-device-wafer-heating-lamp/ Mon, 08 Jun 2026 05:20:31 +0800 http://ir-heat-global.com/fa/posts/power-device-wafer-heating-lamp/ <p><img src="http://ir-heat-global.com/images/e619a459508a95cd74ea4eae0be40cd1.png" alt="چراغ گرمکننده ویفر دستگاه قدرتی"></p> <p>در خطوط تولید، تغییر دمای 1℃ در فرایند soft bake باعث تغییر پروفیل فوتورزیست می‌شود. اگر فرایند hard bake کمی بیش از حد گرم شود، پس از توسعه، پدیده <a href="https://o-yate.net">scumming</a> مشاهده خواهد شد. ویفرهای دستگاه‌های توان شامل دی‌های بزرگ و بودجه حرارتی محدود هستند، بنابراین هر گونه عدم یکنواختی دما به صورت edge bead، کنترل CD ناهمگن و کاهش بازده که قابل چشم‌پوشی نیست، ظاهر می‌شود.</p> <p><strong>آنچه در اصل اهمیت دارد</strong><br> ما گرم‌کن ویفر دستگاه‌های توان را حول انتشاردهنده‌های فروسرخ موج کوتاه در کوارتز طراحی کرده‌ایم — واکنش سریع، خروجی پایدار. پروفیل حرارتی با دقت ±0.1℃ در سراسر ویفر حفظ می‌شود، بنابراین فرایندهای soft bake و hard bake در محدوده مشخصات، طی شیفت‌های متوالی باقی می‌مانند. این سیستم مناسب اتاق‌های تمیز کلاس 1–100 است، بدون تولید ذرات از مجموعه لامپ و با طراحی مهر و موم شده و کم انتشار گاز. تکرارپذیری خروجی در بیش از 5,000 ساعت عملکرد ثابت باقی مانده و حدود کمتر از 5٪ افت دارد، بنابراین پنجره فرایندی تغییر نمی‌کند.</p>