http://ir-heat-global.com/fa/tags/%D8%A7%DA%A9%D8%B3%DB%8C%D8%AF%D8%A7%D8%B3%DB%8C%D9%88%D9%86/ Recent content in اکسیداسیون on Global Infrared Heating Systems Hugo fa Thu, 18 Jun 2026 04:36:37 +0800 http://ir-heat-global.com/fa/posts/wafer-oxidation-heating-element/ Thu, 18 Jun 2026 04:36:37 +0800 http://ir-heat-global.com/fa/posts/wafer-oxidation-heating-element/ <p><img src="http://ir-heat-global.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png" alt="عنصر گرمایشی اکسیداسیون ویفر"></p> <p>در فرآیند تولید، کیفیت محصول به درجات مختلفی بستگی دارد. اگر دمای حرارتی تغییر کند، خطوط تشکیل شده روی ویفر ناهموار خواهند شد. وجود نقاط سرد در فرآیند اکسیداسیون نیز منجر به عدم پایداری لایه اکسیدی می‌شود. ما عناصر گرمایشی مورد استفاده در فرآیند اکسیداسیون ویفرها را طوری طراحی کرده‌ایم که بتوانند با این مشکلات مقابله کنند؛ زیرا کنترل دمایی در این مرحله بسیار مهم است.</p> <p><strong>مواردی که از نظر فنی اهمیت دارند:</strong><br> ما از امواج مادون قرمز با فرستنده‌های کوارتزی با پاسخگویی سریع استفاده می‌کنیم؛ اندازه این فرستنده‌ها نیز متناسب با قطر ویفرها و محیط استفاده است. در سراسر ویفر، یکنواختی دما در حد ±۰٫۱ درجه سانتی‌گراد است؛ همچنین کنترل دما به گونه‌ای است که پروفایل فوتورزیست در هر بار تولید یکنواخت باقی بماند. سازگاری با محیط‌های تمیز نیز اهمیت زیادی دارد؛ ما از موادی با میزان گازهای خروجی بسیار کم و ساختارهایی با کمترین تعداد ذرات استفاده می‌کنیم تا بتوانیم در محیط‌های کلاس ۱ تا ۱۰۰ کار کنیم. خروجی انرژی نیز در طول بیش از ۵۰۰۰ ساعت کار، پایدار باقی می‌ماند و تغییرات دما کمتر از ۵٪ خواهد بود.</p>