<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>امنیت on Global Infrared Heating Systems</title>
		<link>http://ir-heat-global.com/fa/tags/%D8%A7%D9%85%D9%86%DB%8C%D8%AA/</link>
		<description>Recent content in امنیت on Global Infrared Heating Systems</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>fa</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Wed, 17 Jun 2026 16:12:38 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-global.com/fa/tags/%D8%A7%D9%85%D9%86%DB%8C%D8%AA/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>فاصله ایمنی برای گرم کردن ویفر</title>
				<link>http://ir-heat-global.com/fa/posts/safety-distance-for-wafer-heating/</link>
				<pubDate>Wed, 17 Jun 2026 16:12:38 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-global.com/fa/posts/safety-distance-for-wafer-heating/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-global.com/images/016cf4f616aaa15e4af48856b8adc51b.png&#34; alt=&#34;فاصله ایمنی برای گرم کردن ویفر&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;در فرآیند لیتوگرافی، فاصله بین لامپ و ویفر اهمیت زیادی دارد؛ این فاصله باید به درستی تنظیم شود. اگر این فاصله خیلی کم باشد، منجر به افزایش دما، خروج گازهای ناشی از فوتورزیست و ایجاد ذرات ناخواسته خواهد شد. اگر این فاصله خیلی زیاد باشد، عملکرد دستگاه ضعیف خواهد بود و زمان لازم برای پردازش ویفر افزایش خواهد یافت. ما ماژول‌های گرمایشی خود را بر اساس همین فاصله طراحی می‌کنیم و آن را به عنوان یک معیار مهم برای کنترل فرآیند در نظر می‌گیریم.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
