http://ir-heat-global.com/de/tags/verwendung/ Recent content in Verwendung on Global Infrared Heating Systems Hugo de Fri, 03 Jul 2026 09:17:44 +0800 http://ir-heat-global.com/de/posts/why-use-infrared-for-wafer-processing/ Fri, 03 Jul 2026 09:17:44 +0800 http://ir-heat-global.com/de/posts/why-use-infrared-for-wafer-processing/ <p><img src="http://ir-heat-global.com/images/e359da41a435291bc4b653b358552252.png" alt="Warum wird Infrarot zur Waferbearbeitung verwendet"></p> <p>Bei der Herstellung von Wafern hat die thermische Drift nicht nur Auswirkungen auf die Diagramme – sie verringert auch den Ertrag. Eine Temperaturschwankung von 2 °C während des Weichbrennvorgangs des Photoresists kann dazu führen, dass alle Ergebnisse der Lithografie-Prozesse zunichte gemacht werden. Ein kühler Punkt während des Trocknungsprozesses? Dann entstehen <a href="https://henruite.com">Streifen</a> und Partikel, die wie Klebstoff haften bleiben. Infrarotheizung bekämpft diese Probleme effektiv.</p> <p><strong>Was technisch wichtig ist:</strong><br> Infrarotstrahlung bringt die Energie genau dorthin und zu dem Zeitpunkt, an dem sie benötigt wird – ohne dass der Behälter dadurch zu einem heißen Raum wird. Unsere NIR-Emitter treffen das Substrat schnell, sodass eine Temperaturstabilität von ±0,1 °C über den <a href="https://goldisgood.com">gesamten</a> Wafer hinweg gewährleistet werden kann. Auch in Reinräumen der Klassen 1–100 ist dies möglich, da die Hardware aus Materialien hergestellt wird, die wenig Gase abgeben und keine Partikel freisetzen. Die Profile des Photoresist-Brennvorgangs sind reproduzierbar, und das System ist dafür konzipiert, 24/7 zu arbeiten – mit geplanten Wartungsintervallen, die die Produktionsabläufe nicht stören.</p>