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		<title>UV on Global Infrared Heating Systems</title>
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				<title>Heizelemente für Extreme UV (EUV) Resistenzen</title>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-global.com/images/0ea7296bcdd661f341d1983d454c4037.png&#34; alt=&#34;Heizelemente für Extreme UV (EUV) Resistenzen&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;In der EUV-Lithografie ist die Erwärmung des Photoresists keine bloße Nebenbeschäftigung – sie ist &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;vielmehr&lt;/a&gt; entscheidend für die &lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;Qualit&lt;/a&gt;ät der Herstellung. Schon eine kleine Temperaturabweichung kann die Kontrolle über die Abmessungen des Chips beeinträchtigen. Zudem kann bereits ein einziger Staubpartikel dazu führen, dass ein ganzer Chip zerstört wird. Wenn die Heizelemente nicht richtig funktionieren, muss man mit Ausschuss, Nacharbeiten sowie Stillständen bezahlen, die man nicht geplant hatte.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Was wirklich wichtig ist&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Wir entwickeln diese Heizelemente unter Berücksichtigung eines einzigen Ziels: einer reproduzierbaren Temperaturkontrolle. Dabei werden Kurz- und Mittelwellen-Infrarotquellen verwendet, sowie Quarz- und Kohlenstofffaserkomponenten, um eine &lt;a href=&#34;https://goldisgood.com&#34;&gt;gleichm&lt;/a&gt;äßige Temperaturverteilung auf dem Chip zu gewährleisten – mit einer Genauigkeit von ±0,1 °C. Der Temperaturanstieg wird absichtlich kontrolliert, denn sowohl eine sanfte als auch eine schnelle Erhöhung der Temperatur ist notwendig, damit die Chemie des Photoresists erhalten bleibt.&lt;/p&gt;</description>
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